Cristiano Krug

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  • Última atualização do currículo em 16/04/2018


Possui graduação em Química (1999), mestrado em Física (2000) e doutorado em Física (2003) pela Universidade Federal do Rio Grande do Sul, e pós-doutorados na North Carolina State University e SEMATECH Inc. Tem experiência na área de Física, com ênfase em materiais dielétricos e propriedades dielétricas, atuando principalmente nos seguintes temas: filmes finos para dispositivos em nanoescala, dielétricos alternativos ao óxido de silício e técnicas de análise com feixes de íons. (Texto informado pelo autor)


Identificação


Nome
Cristiano Krug
Nome em citações bibliográficas
KRUG, C.;Krug, C.;Krug, Cristiano;Krug, Cristano

Endereço


Endereço Profissional
Universidade Federal do Rio Grande do Sul, Instituto de Física.
Av. Bento Gonçalves, 9500, Prédio 43176, Sala 308
Agronomia
91550000 - Porto Alegre, RS - Brasil
Telefone: (51) 33087252
Fax: (51) 33087286


Formação acadêmica/titulação


2000 - 2003
Doutorado em Física.
Universidade Federal do Rio Grande do Sul, UFRGS, Brasil.
Título: Filmes finos dielétricos para dispositivos microeletrônicos avançados, Ano de obtenção: 2003.
Orientador: Israel Jacob Rabin Baumvol.
Bolsista do(a): Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico, CNPq, Brasil.
Palavras-chave: filmes ultrafinos; dielétrico de porta; dielétricos alternativos ao SiO2; óxido de silício; oxinitretos de silício; óxido de alumínio.
Grande área: Ciências Exatas e da Terra
Setores de atividade: Desenvolvimento de Novos Materiais.
1999 - 2000
Mestrado em Física.
Universidade Federal do Rio Grande do Sul, UFRGS, Brasil.
Título: Recobrimento de Superfícies Porosas com Metalocenos: Análise Multivariada Envolvendo Caracterização com Feixes de Íons,Ano de Obtenção: 2000.
Orientador: Fernanda Chiarello Stedile.
Bolsista do(a): Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico, CNPq, Brasil.
Palavras-chave: Catálise heterogênea; Metalocenos; Técnicas de análise com feixes de íons; RBS; PIGE; Planejamento experimental estatístico.
Grande área: Ciências Exatas e da Terra
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Química / Subárea: Físico-Química / Especialidade: Cinética Química e Catálise.
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Probabilidade e Estatística / Subárea: Estatística / Especialidade: Análise Multivariada.
Setores de atividade: Fabricação de Produtos Químicos; Desenvolvimento de Novos Materiais.
1995 - 1999
Graduação em Química.
Universidade Federal do Rio Grande do Sul, UFRGS, Brasil.
1990 - 1994
Curso técnico/profissionalizante em Química.
Fundação Escola Técnica Liberato Salzano Vieira da Cunha, FETLSVC, Brasil.


Pós-doutorado


2003 - 2005
Pós-Doutorado.
North Carolina State University, NCSU, Estados Unidos.


Atuação Profissional



Universidade Federal do Rio Grande do Sul, UFRGS, Brasil.
Vínculo institucional

2016 - Atual
Vínculo: Servidor Público, Enquadramento Funcional: Professor Adjunto, Regime: Dedicação exclusiva.

Vínculo institucional

2007 - 2011
Vínculo: Servidor Público, Enquadramento Funcional: Professor Adjunto, Regime: Dedicação exclusiva.

Atividades

04/2016 - Atual
Ensino, Engenharia Mecânica, Nível: Graduação

Disciplinas ministradas
FÍSICA GERAL - ELETROMAGNETISMO
03/2010 - 07/2012
Ensino, Engenharia Física, Nível: Graduação

Disciplinas ministradas
Física I-C
Introdução à Engenharia Física
01/2010 - 07/2011
Conselhos, Comissões e Consultoria, Instituto de Física, .

Cargo ou função
Coordenador da Comissão de Graduação de Engenharia Física.
01/2010 - 07/2011
Conselhos, Comissões e Consultoria, Instituto de Física, Departamento de Física.

Cargo ou função
Membro eleito do Colegiado.
03/2007 - 07/2011
Pesquisa e desenvolvimento , Instituto de Física, Departamento de Física.

04/2010 - 05/2010
Ensino, Ciências dos Materiais, Nível: Pós-Graduação

Disciplinas ministradas
Metodologia da Pesquisa Científica
05/2008 - 05/2010
Conselhos, Comissões e Consultoria, Instituto de Física, .

Cargo ou função
Representante docente no Conselho da Unidade.
08/2009 - 12/2009
Ensino, Física, Nível: Pós-Graduação

Disciplinas ministradas
Deposição de Filmes Finos por Pulverização Catódica
03/2007 - 12/2009
Ensino, Física, Nível: Graduação

Disciplinas ministradas
Física Geral e Experimental I A
03/2009 - 06/2009
Ensino, Ciências dos Materiais, Nível: Pós-Graduação

Disciplinas ministradas
Espectroscopia de Fotoelétrons
09/2008 - 10/2008
Ensino, Ciências dos Materiais, Nível: Pós-Graduação

Disciplinas ministradas
Ciência dos Materiais IIA - Propriedades Elétricas dos Materiais
08/2007 - 12/2007
Ensino, Física, Nível: Pós-Graduação

Disciplinas ministradas
Metodologia da Pesquisa Científica

Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S/A, CEITEC, Brasil.
Vínculo institucional

2011 - 2016
Vínculo: Celetista formal, Enquadramento Funcional: Superintendente de Pesquisa e Desenvolvimento, Carga horária: 44, Regime: Dedicação exclusiva.

Atividades

07/2011 - 03/2016
Direção e administração, Superintendência de Pesquisa e Desenvolvimento, .

Cargo ou função
Superintendente.

Universidade de Caxias do Sul, UCS, Brasil.
Vínculo institucional

2006 - 2007
Vínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Professor convidado, Carga horária: 40

Atividades

11/2006 - 02/2007
Pesquisa e desenvolvimento , Reitoria, Centro de Ciências Exatas, da Natureza e de Tecnologia.

11/2006 - 02/2007
Ensino, Programa de Pós-Graduação em Materiais, Nível: Pós-Graduação

Disciplinas ministradas
Engenharia de Superfícies
11/2006 - 02/2007
Ensino, Engenharia de Produção, Nível: Graduação

Disciplinas ministradas
Química Geral

SEMATECH Inc., SEMATECH, Estados Unidos.
Vínculo institucional

2005 - 2006
Vínculo: Pós-Doutor, Enquadramento Funcional: Post-Doctoral research associate, Regime: Dedicação exclusiva.

Atividades

9/2005 - 9/2006
Pesquisa e desenvolvimento , Front End Processes, .


North Carolina State University, NCSU, Estados Unidos.
Vínculo institucional

2003 - 2005
Vínculo: Bolsista recém-doutor, Enquadramento Funcional: Post Doctoral Research Associate, Regime: Dedicação exclusiva.

Atividades

5/2003 - 5/2005
Pesquisa e desenvolvimento , College Of Physical And Mathematical Sciences, Department Of Physics.


IBM Corporation, IBM, Estados Unidos.
Vínculo institucional

2000 - 2000
Vínculo: Colaborador, Enquadramento Funcional: Bolsista de Verão, Carga horária: 40

Atividades

06/2000 - 08/2000
Estágios , T. J. Watson Research Center, .

Estágio realizado
Comportamento de isótopos de hidrogênio em dispositivos microeletrônicos.

Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais, CNPEM, Brasil.
Vínculo institucional

1998 - 1998
Vínculo: Colaborador, Enquadramento Funcional: Bolsista de Verão, Carga horária: 40

Atividades

01/1998 - 02/1998
Estágios , Grupo de Física de Aceleradores, .

Estágio realizado
Descrição da dinâmica longitudinal dos elétrons após injeção no anel de armazenamento..


Linhas de pesquisa


1.
Thin dielectric films for advanced microelectronic devices
2.
Electronic devices on germanium
3.
Dielectric films for nanoscale electronic devices
4.
Multicamadas de óxidos para aplicações tribológicas extremas

Objetivo: Criar multicamadas nanoestruturadas de óxidos metálicos e utilizá-las como revestimento protetore em ferramentas de usinagem a seco..
Grande área: Ciências Exatas e da Terra
Grande Área: Engenharias / Área: Engenharia de Materiais e Metalúrgica / Subárea: Metalurgia de Transformação / Especialidade: Recobrimentos.
Setores de atividade: Atividades No Campo das Nanotecnologias e Desenvolvimento de Nanoprodutos; Indústria Metal-Mecânica.
Palavras-chave: tratamento de aços; engenharia de superfícies; revestimentos protetores nanoestruturados.
5.
Nitretação a plasma

Objetivo: Criar processos inovadores para engenharia de superfícies de materiais metálicos utilizando nitretação a plasma..
Grande área: Engenharias
Setores de atividade: Indústria Metal-Mecânica.
Palavras-chave: nitretação a plasma; engenharia de superfícies; tratamento de aços.
6.
Nanociência de Semicondutores

Objetivo: Desenvolver nanoestruturas metal/dielétrico/semicondutor para aplicação em futuras gerações de dispositivos semicondutores; fabricar transistores de um elétron em silício que operem em temperatura ambiente; investigar nanocristais semicondutores tendo em vista a aplicação em dispositivos.
Grande área: Ciências Exatas e da Terra
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada.
Setores de atividade: Atividades No Campo das Nanotecnologias e Desenvolvimento de Nanoprodutos; Desenvolvimento de Novos Materiais.
Palavras-chave: germânio; dielétricos alternativos ao SiO2; filmes ultrafinos.
7.
Óxidos Funcionais Nanoestruturados

Objetivo: Produzir e caracterizar óxidos nanoestruturados para aplicações mecânicas e eletrônicas.
Grande área: Engenharias
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada / Especialidade: Propriedades Mecânicas e Acústicas da Matéria Condensada.
Setores de atividade: Atividades No Campo das Nanotecnologias e Desenvolvimento de Nanoprodutos.
Palavras-chave: revestimentos protetores nanoestruturados; multicamadas de óxidos; óxido de titânio; óxido de alumínio.


Projetos de pesquisa


2008 - 2011
Multicamadas nanoestruturadas de óxidos para aplicações tribológicas extremas
Descrição: Preparação e caracterização de multicamadas de óxidos metálicos como revestimentos protetores de ferramentas de corte para usinagem a seco..
Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa.
Alunos envolvidos: Graduação: (0) / Especialização: (0) / Mestrado acadêmico: (0) / Mestrado profissional: (0) / Doutorado: (1) .

Integrantes: Cristiano Krug - Integrante / Israel Jacob Rabin Baumvol - Integrante / Tatiana Weber - Integrante / M A Z Vasconcellos - Coordenador.
Financiador(es): Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico - Auxílio financeiro.
2007 - 2011
Filmes finos dielétricos em carbeto de silício
Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa.

Integrantes: Cristiano Krug - Coordenador.
2007 - 2011
Dielétricos para tecnologia eletrônica em germânio
Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa.
Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Especialização: (0) / Mestrado acadêmico: (1) / Mestrado profissional: (0) / Doutorado: (0) .

Integrantes: Cristiano Krug - Coordenador.
2006 - 2008
Multicamadas de óxidos para aplicações tribológicas extremas
Descrição: Preparação, caracterização e teste de multicamadas nanoestruturadas de óxidos metálicos como revestimento protetor para aplicações tribológicas extremas como usinagem a seco..
Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa.
Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Especialização: (0) / Mestrado acadêmico: (1) / Mestrado profissional: (0) / Doutorado: (1) .

Integrantes: Cristiano Krug - Coordenador / Israel Jacob Rabin Baumvol - Integrante / Tatiana Weber - Integrante / Cesar Aguzzoli - Integrante / M A Z Vasconcellos - Integrante.
Financiador(es): Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico - Auxílio financeiro.


Revisor de periódico


2005 - 2011
Periódico: Solid State Communications
2006 - 2011
Periódico: Electronics Letters
2007 - 2011
Periódico: Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo
2008 - 2011
Periódico: Europhysics Letters


Áreas de atuação


1.
Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada/Especialidade: Materiais Dielétricos e Propriedades Dielétricas.
2.
Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada/Especialidade: Superfícies e Interfaces; Películas e Filamentos.
3.
Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Química / Subárea: Físico-Química/Especialidade: Cinética Química e Catálise.


Idiomas


Inglês
Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.
Alemão
Compreende Razoavelmente, Fala Razoavelmente, Lê Razoavelmente, Escreve Pouco.
Espanhol
Compreende Razoavelmente, Lê Razoavelmente.


Prêmios e títulos


2007
Troféu Liberato 40 Anos, Fundação Escola Técnica Liberato Salzano Vieira da Cunha.
2007
Membro Afiliado da Academia Brasileira de Ciências, Academia Brasileira de Ciências.
2004
Prêmio SBF de Melhor Tese de Doutoramento, Sociedade Brasileira de Física.
2003
Tese defendida com conceito "A com louvor", Instituto de Física da UFRGS.
2002
Melhor Dissertação de Mestrado em Física no MERCOSUL Ampliado, UNESCO/ORCYT.
1999
Prêmio Union Carbide de Incentivo à Química, Associação Brasileira de Química.
1999
Colação de grau como Bacharel em Química antecipada por excelência acadêmica, Universidade Federal do Rio Grande do Sul.
1997
Destaque do IX Salão de Iniciação Científica, Universidade Federal do Rio Grande do Sul.
1995
Primeiro lugar em Química na 46th International Science and Engineering Fair, Science Services, Inc..
1994
Prêmio Killing de Tecnologia, Fundação Escola Técnica Liberato Salzano Vieira da Cunha.
1994
Prêmio Fiergs de Tecnologia, Fundação Escola Técnica Liberato Salzano Vieira da Cunha.
1994
Destaque da turma de formandos do Curso Técnico de Química, Fundação Escola Técnica Liberato Salzano Vieira da Cunha.
1994
Primeiro lugar em Química na Mostra de Ciência e Tecnologia das Escolas Técnicas Sul-Americanas, Fundação Escola Técnica Liberato Salzano Vieira da Cunha.


Produções



Produção bibliográfica
Citações

Web of Science
Total de trabalhos:67
Total de citações:1117
Fator H:16
AU=krug c* AND (AD=brazil OR AD=austin OR AD=raleigh OR AD=yorktown) NOT (AD=criciuma OR AD=joinville OR AD=manaus OR AD=BioDISCOVERY)  Data: 16/04/2018

SCOPUS

Artigos completos publicados em periódicos

1.
HERNANDEZ-COMO, N.2014HERNANDEZ-COMO, N. ; MARTINEZ-LANDEROS, V. ; MEJIA, I. ; AGUIRRE-TOSTADO, F.S. ; NASCIMENTO, C.D. ; DE M. AZEVEDO, G. ; Krug, C. ; QUEVEDO-LOPEZ, M.A. . Defect control in room temperature deposited cadmium sulfide thin films by pulsed laser deposition. Thin Solid Films, v. 550, p. 665-668, 2014.

2.
Soares, G. V.2014Soares, G. V. ; FEIJÓ, T. O. ; BAUMVOL, I. J. R. ; AGUZZOLI, C. ; Krug, C. ; RADTKE, C. . Thermally-driven H interaction with HfO2 films deposited on Ge(100) and Si(100). Applied Physics Letters, v. 104, p. 042901, 2014.

3.
TRENTIN, DANIELLE S.2014TRENTIN, DANIELLE S. ; BONATTO, FERNANDO ; ZIMMER, KARINE R. ; RIBEIRO, VANESSA B. ; ANTUNES, ANA LÚCIA S. ; BARTH, AFONSO L. ; Soares, Gabriel V. ; Krug, Cristano ; BAUMVOL, ISRAEL J.R. ; MACEDO, ALEXANDRE J. . N2/H2 plasma surface modifications of polystyrene inhibit the adhesion of multidrug resistant bacteria. Surface & Coatings Technology, v. 245, p. 84-91, 2014.

4.
TRETER, JANINE2014TRETER, JANINE ; BONATTO, FERNANDO ; Krug, Cristiano ; Soares, Gabriel Vieira ; Baumvol, Israel Jacob Rabin ; MACEDO, ALEXANDRE JOSÉ . Washing-resistant surfactant coated surface is able to inhibit pathogenic bacteria adhesion. Applied Surface Science, v. 303, p. 147-154, 2014.

5.
Bom, N.M.2012Bom, N.M. ; Soares, G.V. ; BAUMVOL, I.J.R. ; RADTKE, C. ; Krug, C. . Probing the stability of Al2O3/Ge structures with ion beams. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B, Beam Interactions with Materials and Atoms (Print), v. 273, p. 146-148, 2012.

6.
da Silva, S. R. M.2012da Silva, S. R. M. ; da Costa, M. E. H. M. ; MIOTTI, L. ; Krug, C. ; Soares, G. V. ; Freire, F. L. ; BAUMVOL, I. J. R. ; Rolim, G. K. ; RADTKE, C. . Oxygen transport and GeO2 stability during thermal oxidation of Ge. Applied Physics Letters, v. 100, p. 191907, 2012.

7.
Bom, Nicolau Molina2012Bom, Nicolau Molina ; Pezzi, Rafael Peretti ; Krug, Cristiano ; Radtke, Claudio ; Baumvol, Israel Jacob Rabin ; Soares, Gabriel Vieira . Evolution of the Al2O3/Ge(100) interface for reactively sputter-deposited films submitted to postdeposition anneals. Applied Surface Science, v. 258, p. 5707-5711, 2012.

8.
Soares, G. V.2011Soares, G. V. ; Krug, C. ; MIOTTI, L. ; BASTOS, K. P. ; LUCOVSKY, G. ; BAUMVOL, I. J. R. ; RADTKE, C. . Intermixing between HfO[sub 2] and GeO[sub 2] films deposited on Ge(001) and Si(001): Role of the substrate. Applied Physics Letters, v. 98, p. 131912, 2011.

9.
RADTKE, C.2010RADTKE, C. ; Krug, C. ; Soares, G. V. ; BAUMVOL, I. J. R. ; Lopes, J. M. J. ; Durgun-Ozben, E. ; Nichau, A. ; Schubert, J. ; Mantl, S. . Physicochemical and Electrical Properties of LaLuO[sub 3]/Ge(100) Structures Submitted to Postdeposition Annealings. Electrochemical and Solid-State Letters, v. 13, p. G37, 2010.

10.
Corre^a, S. A.2009Corre^a, S. A. ; Marmitt, G. G. ; Bom, N. M. ; da Rosa, A. T. ; STEDILE, F. C. ; RADTKE, C. ; Soares, G. V. ; BAUMVOL, I. J. R. ; Krug, C. ; Gobbi, A. L. . Enhancement in interface robustness regarding thermal oxidation in nanostructured Al[sub 2]O[sub 3] deposited on 4H-SiC. Applied Physics Letters, v. 95, p. 051916, 2009.

11.
PEZZI, R. P.2008PEZZI, R. P. ; KRUG, C. ; GRANDE, P. L. ; ROSA, E. B. O. ; SCHIWIETZ, G. ; BAUMVOL, I. J. R. . Analytical energy loss distribution for accurate high resolution depth profiling using medium energy ion scattering. Applied Physics Letters, v. 92, p. 164102, 2008.

12.
EDON, V.2008EDON, V. ; LI, Z. ; Hugon, M.-C. ; KRUG, C. ; BASTOS, K. P. ; MIOTTI, L. ; BAUMVOL, I. J. R. ; Cardinaud, C. ; DURAND, O. ; EYPERT, C. . Electrical Properties and Interfacial Characteristics of RuO[sub 2]?HfAlO[sub x]?SiON?Si and RuO[sub 2]?LaAlO[sub 3]?SiON?Si Capacitors. Journal of the Electrochemical Society, v. 155, p. H661, 2008.

13.
EDON, V.2008EDON, V. ; Hugon, M. -C. ; AGIUS, B. ; BASTOS, K. P. ; MIOTTI, L. ; DRIEMEIER, C. ; SALVADOR, L. ; Krug, C. ; BAUMVOL, I. J. R. ; EYPERT, C. ; DURAND, O. . EFFECTS OF NITROGEN INCORPORATION IN LANTHANUM-BASED DIELECTRIC FILMS. Integrated Ferroelectrics, v. 97, p. 129-142, 2008.

14.
Corre^a, Silma A.2008Corre^a, Silma A. ; Radtke, Cla?udio ; Soares, Gabriel V. ; Baumvol, Israel J. R. ; Krug, Cristiano ; Stedile, Fernanda C. . Presence and Resistance to Wet Etching of Silicon Oxycarbides at the SiO[sub 2]/SiC Interface. Electrochemical and Solid-State Letters, v. 11, p. H258, 2008.

15.
RADTKE, C.2008RADTKE, C. ; STEDILE, F. C. ; Soares, G. V. ; Krug, C. ; da Rosa, E. B. O. ; DRIEMEIER, C. ; BAUMVOL, I. J. R. ; PEZZI, R. P. . Interaction of SiC thermal oxidation by-products with SiO[sub 2]. Applied Physics Letters, v. 92, p. 252909, 2008.

16.
MIOTTI, L.2007MIOTTI, L. ; PEZZI, R. P. ; COPEL, M. ; KRUG, C. ; BAUMVOL, I. J. R. . Atomic transport and integrity of Al2O3(2.0 nm)/HfO2(2.5 nm) gate stacks on Si. Applied Physics Letters, v. 90, p. 052913, 2007.

17.
JOSHI, S.2007 JOSHI, S. ; KRUG, C. ; HEH, D. ; NA, H. J. ; HARRIS, H. R. ; OH, J. W. ; KIRSCH, P. D. ; MAJHI, P. ; LEE, B. H. ; TSENG, H. H. ; JAMMY, R. ; LEE, J. C. ; BANERJEE, S. K. . Improved Ge Surface Passivation With Ultrathin SiOx Enabling High-Mobility Surface Channel pMOSFETs Featuring a HfSiO/WN Gate Stack. IEEE Electron Device Letters, v. 28, p. 308-311, 2007.

18.
EDON, V.2007EDON, V. ; LI, Z. ; HUGON, M. C. ; AGIUS, B. ; KRUG, C. ; BAUMVOL, I. J. R. ; DURAND, O. ; EYPERT, C. . Electrical Characteristics and Interface Structure of HfAlO/SiON/Si(001) Stacks. Applied Physics Letters, v. 90, p. 122905, 2007.

19.
BASTOS, K. P.2007BASTOS, K. P. ; SALVADOR, L. ; KRUG, C. ; EDON, V. ; HUGON, M. C. ; AGIUS, B. ; BAUMVOL, I. J. R. . Thermally Induced Atomic Transport in Nanometric LaAlON Films on Si. Electrochemical and Solid-State Letters, v. 10, p. G69-G71, 2007.

20.
BOSCKE, T. S.2007BOSCKE, T. S. ; Govindarajan, S. ; KIRSCH, P. D. ; HUNG, P. Y. ; KRUG, C. ; LEE, B. H. ; HEITMANN, J. ; SCHRODER, U. ; PANT, G. ; GNADE, B. ; KRAUTSCHNEIDER, W. H. . Stabilization of higher-k tetragonal HfO2 by SiO2 admixture enabling thermally stable metal-insulator-metal capacitors. Applied Physics Letters, v. 91, p. 072902, 2007.

21.
PEZZI, R. P.2007PEZZI, R. P. ; GRANDE, P. L. ; COPEL, M. ; SCHIWIETZ, G. ; KRUG, C. ; BAUMVOL, I. J. R. . Advanced ion energy loss models: Applications to subnanometric resolution elemental depth profiling. Surface Science, v. 601, p. 5559-5570, 2007.

22.
MIOTTI, L.2006MIOTTI, L. ; TATSCH, F. ; DRIEMEIER, C. ; BASTOS, K. P. ; EDON, V. ; HUGON, M. C. ; AGIUS, B. ; BAUMVOL, I. J. R. ; KRUG, C. . Composition, stability and oxygen transport in lanthanum and hafnium aluminates thin films on Si. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms, v. 249, p. 366-369, 2006.

23.
BARRADAS, N. P.2005BARRADAS, N. P. ; ADDED, N. ; ARNOLDBIK, W. M. ; BOGDANOVIC-RADOVIC, I. ; DANNER, C. ; DYTLEWSKI, N. ; FREITAS, P. P. ; JAKSIC, M. ; JEYNES, C. ; KRUG, C. ; LINSMEIER, C. ; MEDUNIC, Z. ; PELICON, P. ; PEZZI, R. P. ; RADTKE, C. . A round robin characterisation of the thickness and composition of thin to ultra-thin AlNO films. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms, v. 227, p. 397, 2005.

24.
DRIEMEIER, C.2005DRIEMEIER, C. ; BASTOS, K. P. ; MIOTTI, L. ; BAUMVOL, I. J. R. ; NGUYEN, N. V. ; SAYAN, S. ; KRUG, C. . Compositional stability of hafnium aluminate thin films deposited on Si by atomic layer deposition. Applied Physics Letters, v. 86, p. 221911, 2005.

25.
NGUYEN, N. V.2005NGUYEN, N. V. ; SAYAN, S. ; LEVIN, I. ; EHRSTEIN, J. R. ; BAUMVOL, I. J. R. ; DRIEMEIER, C. ; KRUG, C. ; WIELUNSKI, L. ; HUNG, P. Y. ; DIEBOLD, A. . Optical band gaps and composition dependence of hafnium-aluminate thin films grown by atomic layer chemical vapor deposition. Journal of Vacuum Science and Technology. Part A. Vacuum, Surfaces and Films, v. 23, p. 1706-1713, 2005.

26.
PARK, M.2005PARK, M. ; KOO, J. ; KIM, J. ; JEON, H. ; BAE, C. ; KRUG, C. . Suppression of parasitic Si substrate oxidation in HfO2-ultrathin-Al2O3-Si structures prepared by atomic layer deposition. Applied Physics Letters, v. 86, p. 252110, 2005.

27.
KRUG, C.;Krug, C.;Krug, Cristiano;Krug, Cristano2004KRUG, C.; GUSEV, E. P. . Transport and exchange of hydrogen isotopes in silicon-device-related stacks. Journal of Applied Physics, New York, v. 95, n.3, p. 887-895, 2004.

28.
BAE, C.2004 BAE, C. ; KRUG, C. ; LUCOVSKY, G. ; CHAKRABORTY, A. ; MISHRA, U. . Surface passivation of n-GaN by nitrided-thin-Ga[sub 2]O[sub 3]/SiO[sub 2] and Si[sub 3]N[sub 4] films. Journal of Applied Physics, Melville, v. 96, n.5, p. 2674-2680, 2004.

29.
KRUG, C.;Krug, C.;Krug, Cristiano;Krug, Cristano2004KRUG, C.; LUCOVSKY, G. . Spectroscopic characterization of high k dielectrics: Applications to interface electronic structure and stability against chemical phase separation. Journal of Vacuum Science and Technology. Part A. Vacuum, Surfaces and Films, Melville, v. 22, n.4, p. 1301-1308, 2004.

30.
BAE, C.2004BAE, C. ; KRUG, C. ; LUCOVSKY, G. ; CHAKRABORTY, A. ; MISHRA, U. . Work-function difference between Al and n-GaN from Al-gated n-GaN/nitrided-thin-Ga[sub 2]O[sub 3]/SiO[sub 2] metal oxide semiconductor structures. Applied Physics Letters, Melville, v. 84, n.26, p. 5413-5415, 2004.

31.
BAE, C.2004BAE, C. ; KRUG, C. ; LUCOVSKY, G. . Electron trapping in metal-insulator-semiconductor structures on n-GaN with SiO2 and Si3N4 dielectrics. Journal of Vacuum Science and Technology. Part A. Vacuum, Surfaces and Films, v. 22, p. 2379, 2004.

32.
KRUG, C.;Krug, C.;Krug, Cristiano;Krug, Cristano2003KRUG, C.; STEDILE, F. C. ; RADTKE, C. ; ROSA, E. B. O. ; MORAIS, J. ; FREIRE JR., F. L. ; BAUMVOL, I. J. R. . Characterization by ion beams of surfaces and interfaces of alternative materials for future microelectronic devices. Applied Surface Science, Amsterdam, v. 212-3, p. 556-562, 2003.

33.
PEZZI, R. P.2002PEZZI, R. P. ; KRUG, C. ; ROSA, E. B. O. ; MORAIS, J. ; MIOTTI, L. ; BAUMVOL, I. J. R. . Ion beam studies of high-k ultrathin films deposited on Si. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms, Amsterdam, v. 190, p. 510-513, 2002.

34.
ROSA, E. B. O.2002ROSA, E. B. O. ; KRUG, C. ; STEDILE, F. C. ; MORAIS, J. ; BAUMVOL, I. J. R. . Narrow nuclear resonance profiling of Al with subnanometric depth resolution. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms, Amsterdam, v. 190, p. 538-542, 2002.

35.
ROSA, E. B. O.2002ROSA, E. B. O. ; KRUG, C. ; RADTKE, C. ; PEZZI, R. P. ; MIOTTI, L. ; BRANDAO, R. ; MORAIS, J. ; BAUMVOL, I. J. R. ; STEDILE, F. C. . Surface and interface investigation of nanometric dielectric films on Si and on SiC. Surface Review and Letters, Singapura, v. 9, n.1,2, p. 393-400, 2002.

36.
KRUG, C.;Krug, C.;Krug, Cristiano;Krug, Cristano2001KRUG, C.; SALGADO, T. D. M. ; STEDILE, F. C. ; BAUMVOL, I. J. R. . Low energy nitrogen implantation into Si and SiO2/Si. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms, Amsterdam, v. 175, p. 694-698, 2001.

37.
KRUG, C.;Krug, C.;Krug, Cristiano;Krug, Cristano2001KRUG, C.; RADTKE, C. ; STEDILE, F. C. ; BAUMVOL, I. J. R. . Isotope-beam modification of materials at eV energies. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms, Amsterdam, v. 175, p. 705-710, 2001.

38.
HAAG, M. C.2001HAAG, M. C. ; KRUG, C. ; DUPONT, J. ; GALLAND, G. B. ; SANTOS, J. H. Z. ; UOZUMI, T. ; SANO, T. ; SOGA, K. . Effects of Al/Zr ratio on ethylene-propylene copolymerization with supported-zirconocene catalysts. Journal of Chemical Catalysis. A, Chemical, Amsterdam, v. 169, p. 275-287, 2001.

39.
KRUG, C.;Krug, C.;Krug, Cristiano;Krug, Cristano2001KRUG, C.; ROSA, E. B. O. ; ALMEIDA, R. M. C. ; MORAIS, J. ; BAUMVOL, I. J. R. ; SALGADO, T. D. M. ; STEDILE, F. C. . Krug et al. reply. Physical Review Letters, College Park, v. 86, n.20, p. 4714-4714, 2001.

40.
GUSEV, E. P.2000GUSEV, E. P. ; COPEL, M. ; CARTIER, E. ; BAUMVOL, I. J. R. ; KRUG, C. ; GRIBELYUK, M. A. . High resolution depth profiling in ultrathin Al2O3 films on Si. Applied Physics Letters, Woodbury, v. 76, n.2, p. 176-178, 2000.

41.
KRUG, C.;Krug, C.;Krug, Cristiano;Krug, Cristano2000 KRUG, C.; ROSA, E. B. O. ; ALMEIDA, R. M. C. ; MORAIS, J. ; BAUMVOL, I. J. R. ; SALGADO, T. D. M. ; STEDILE, F. C. . Atomic Transport and Chemical Stability during Annealing of Ultrathin Al2O3 Films on Si. Physical Review Letters, College Park, v. 85, n.19, p. 4120-4123, 2000.

42.
SALGADO, T. D. M.1999SALGADO, T. D. M. ; RADTKE, C. ; KRUG, C. ; ANDRADE, J. ; BAUMVOL, I. J. R. . Effects of the final oxidation step on N and O distributions in silicon oxide/nitride/oxide ultrathin films. Journal of the Electrochemical Society, Pennington, v. 146, n.10, p. 3788-3793, 1999.

43.
BAUMVOL, I. J. R.1999BAUMVOL, I. J. R. ; KRUG, C. ; STEDILE, F. C. ; GORRIS, F. ; SCHULTE, W. H. . Isotopic substitution of Si during thermal growth of ultrathin silicon-oxide films on Si(111) in O-2. Physical Review. B, Condensed Matter and Materials Physics, College Park, v. 60, n.3, p. 1492-1495, 1999.

44.
SANTOS, J. H. Z.1999SANTOS, J. H. Z. ; ROSA, M. B. ; KRUG, C. ; STEDILE, F. C. ; HAAG, M. C. ; DUPONT, J. ; FORTE, M. C. . Effects of ethylene polymerization conditions on the activity of SiO2-supported zirconocene and on polymer properties. Journal of Polymer Science. Part A, Polymer Chemistry, v. 37, n.13, p. 1987-1996, 1999.

45.
GORRIS, F.1999GORRIS, F. ; KRUG, C. ; KUBSKY, S. ; BAUMVOL, I. J. R. ; SCHULTE, W. H. ; ROLFS, C. . Production of thin epitaxial films using ion beam deposition. Physica Status Solidi. A, Applied Research, v. 173, n.1, p. 167-173, 1999.

46.
SANTOS, J. H. Z.1999SANTOS, J. H. Z. ; LARENTIS, A. ; ROSA, M. B. ; KRUG, C. ; BAUMVOL, I. J. R. ; DUPONT, J. ; STEDILE, F. C. ; FORTE, M. C. . Optimization of a silica supported bis(butylcyclopentadienyl)zirconium dichloride catalyst for ethylene polymerization. Macromolecular Chemistry and Physics, v. 200, n.4, p. 751-757, 1999.

47.
BAUMVOL, I. J. R.1999BAUMVOL, I. J. R. ; SALGADO, T. D. M. ; STEDILE, F. C. ; RADTKE, C. ; KRUG, C. . Isotopic substitution of N, O, and Si in the thermal oxidation of nitrogen-deposited silicon. Applied Physics Letters, v. 74, n.13, p. 1872-1874, 1999.

48.
SALGADO, T. D. M.1999SALGADO, T. D. M. ; STEDILE, F. C. ; KRUG, C. ; BAUMVOL, I. J. R. ; RADTKE, C. . Very low energy nitrogen implantation for ultrathin silicon oxynitride film formation. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms, v. 148, n.1-4, p. 252, 1999.

49.
SANTOS, J. H. Z.1999SANTOS, J. H. Z. ; KRUG, C. ; ROSA, M. B. ; STEDILE, F. C. ; DUPONT, J. ; FORTE, M. C. . The effect of silica dehydroxylation temperature on the activity of SiO2-supported zirconocene catalysts. Journal of Chemical Catalysis. A, Chemical, v. 139, n.2-3, p. 199-207, 1999.

50.
BAUMVOL, I. J. R.1999BAUMVOL, I. J. R. ; KRUG, C. ; STEDILE, F. C. ; GREEN, M. L. ; JACOBSON, D. C. ; EAGLESHAM, D. ; BERNSTEIN, J. D. ; SHAO, J. ; DENHOLM, A. S. ; KELLERMAN, P. L. . Ultrathin silicon oxynitride film formation by plasma immersion nitrogen implantation. Applied Physics Letters, v. 74, n.6, p. 806-808, 1999.

51.
BAUMVOL, I. J. R.1998BAUMVOL, I. J. R. ; SALGADO, T. D. M. ; RADTKE, C. ; KRUG, C. ; ANDRADE, J. . Atomic transport across the interfaces during the formation of ultrathin silicon oxide/nitride/oxide films. Applied Physics Letters, v. 73, n.14, p. 1970, 1998.

52.
BAUMVOL, I. J. R.1998BAUMVOL, I. J. R. ; SALGADO, T. D. M. ; STEDILE, F. C. ; KRUG, C. ; RADTKE, C. . Effects of the surface deposition of nitrogen on the thermal oxidation of silicon in O2. Journal of Applied Physics, v. 83, n.10, p. 5579, 1998.

53.
DOMINGUES JÚNIOR, N. S.1997DOMINGUES JÚNIOR, N. S. ; KRUG, C. ; LIVOTTO, P. R. ; STEFANI, V. . Computational study of the excited states of 2,5-bis(benzoxazol-2'-yl)hydroquinone and its monomethoxy derivative. Journal of the Chemical Society. Perkin Transactions. 2 (Online), v. 1997, p. 1861-1865, 1997.

Capítulos de livros publicados
1.
Krug, Cristiano; RADTKE, C. . De micro a nanoeletrônica: quatro décadas de miniaturização na tecnologia do silício. In: Adriana Raffin Pohlmann; Carlos Otávio Petter; Naira Maria Balzaretti; Sílvia Staniscuaski Guterres. (Org.). Tópicos em Nanociência e Nanotecnologia. 1ed.Porto Alegre: Editora da UFRGS, 2008, v. , p. 35-45.

2.
KRUG, C.; BAUMVOL, I. J. R. . Ultrathin gate dielectric films for Si-based microelectronic devices. In: Maurice H. Francombe. (Org.). Thin Films. 1ed.San Diego: Academic Press, 2002, v. 29, p. 1-133.

3.
KRUG, C.; BAUMVOL, I. J. R. . Ultrathin gate dielectric films for Si-based microelectronic devices. In: H. S. Nalwa. (Org.). Handbook of Thin Film Materials. 1ed.San Diego: Academic Press, 2001, v. 3, p. 169-229.

Trabalhos completos publicados em anais de congressos
1.
Jacobsen, S. ; Petitprez, E. ; Tararam, R. ; KRUG, C. ; Lubaszewski, M. . Deposition influence in electric and morphologic behavior of integrated circuits metallic lines edited by focused ion beam. In: XVIII Escola de Microeletrônica Sul (EMICRO 2016) e XXXI Simpósio Sul de Microeletrônica (SIM 2016), 2016, Porto Alegre. Anais do XXXI Simpósio Sul de Microeletrônica.

2.
Petitprez, E. ; Colombo, D. M. ; Henes, F. M. ; Courcelle, L. ; Tararam, R. ; Jacobsen, S. ; Soares, R. ; Krug, C. ; Lubaszewski, M. . Successful Prototyping of Complex Integrated Circuits with Focused Ion Beam. In: 29th Symposium on Integrated Circuits and Systems Design, 2016, Belo Horizonte. Proceedings of the 29th Symposium on Integrated Circuits and Systems Design, 2016.

3.
Petitprez, E. ; Tararam, R. ; Jacobsen, S. ; Krug, C. ; Lubaszewski, M. . Reconfiguring Integrated Circuits with Focused Ion Beam. In: XVII Escola de Microeletrônica Sul (EMICRO 2015) e XXX Simpósio Sul de Microeletrônica (SIM 2015), 2015, Santa Maria. Anais do XXX Simpósio Sul de Microeletrônica, 2015.

4.
Petitprez, E. ; Jacobsen, S. ; Tararam, R. ; Krug, C. ; Lubaszewski, M. . Electrical Characterization of Integrated Circuit Interconnects Processed with Focused Ion Beam. In: 5th Workshop on Circuits and Systems Design, 2015, Salvador. Proceedings of the 5th Workshop on Circuits and Systems Design, 2015.

5.
AMY, S. R. ; CHABAL, Y. J. ; AMY, F. ; KAHN, A. ; KRUG, C. ; KIRSCH, P. D. . Wet Chemical Cleaning of Germanium Surfaces for Growth of High-k Dielectrics. In: 2006 MRS Spring Meeting, 2006, San Francisco. Gate Stack Scaling -- Materials Selection, Role of Interfaces, and Reliability Implications. Warrendale: Materials Research Society, 2006. v. 917E.

6.
BAUMVOL, I. J. R. ; STEDILE, F. C. ; MORAIS, J. ; RADTKE, C. ; ROSA, E. B. O. ; BASTOS, K. P. ; PEZZI, R. P. ; MIOTTI, L. ; SOARES, G. V. . Thermally-driven atomic transport in silicon oxynitride and high-k films on silicon. In: 203rd Meeting of the Electrochemical Society, 2003, Paris. Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films. Pennington: The Electrochemical Society, 2003. v. 2003-2. p. 106-118.

7.
KRUG, C.; BAUMVOL, I. J. R. . Ion implantation of N into Si and SiO2/Si in the 1--1000 eV energy range for gate dielectric fabrication. In: 2000 International Conference on Ion Implantation Technology, 2001, Alpbach. 2000 International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings. Piscataway: IEEE, 2000. p. 342-345.

8.
KRUG, C.; BAUMVOL, I. J. R. ; STEDILE, F. C. ; GREEN, M. L. ; KLEMENS, F. ; SILVERMAN, P. J. ; SORSCH, T. W. ; ALVAREZ, F. ; HAMMER, P. ; VICTORIA, N. M. . Hyperthermal Nitridation for Ultrathin Silicon Oxynitride Gate Dielectrics. In: Fourth International Symposium on the Physics and Chemistry of SiO2 and the Si-SiO2 Interface, 2000, Toronto. The Physics and Chemistry of SiO2 and the Si-SiO2 Interface. Pennington: The Electrochemical Society, 2000. v. 4. p. 187-197.

9.
GUSEV, E. P. ; COPEL, M. ; CARTIER, E. ; BUCHANAN, D. ; OKORNSCHMIDT, H. ; GRIBELYUK, M. ; FALCON, D. ; MURPHY, R. ; MOLIS, S. ; BAUMVOL, I. J. R. ; KRUG, C. ; JUSSILA, M. ; TUOMINEN, M. ; HAUKKA, S. . Physical Characterization of Ultrathin Films of High Dielectric Constant Materials on Silicon. In: Fourth International Symposium on the Physics and Chemistry of SiO2 and the Si-SiO2 Interface, 2000, Toronto. The Physics and Chemistry of SiO2 and the Si-SiO2 Interface. Warrendale: The Electrochemical Society, 2000. v. 4. p. 477-485.

10.
RADKTE, C. ; SALGADO, T. D. M. ; KRUG, C. ; ANDRADE, J. ; BAUMVOL, I. J. R. . Sub-Nanometric Resolution Depth Profiling of Ultrathin ONO Structures. In: Ultrathin SiO2 and High-K Materials for ULSI Gate Dielectrics, 1999, San Francisco. Materials Research Society Symposium Proceedings. Warrendale: Materials Research Society, 1999. v. 567. p. 537-542.

11.
HAAG, M. C. ; SANTOS, J. H. Z. ; KRUG, C. ; DUPONT, J. ; STEDILE, F. C. . EFEITO DAS CONDICOES DE PREPARACAO DO SISTEMA CATALICO ET(IND)2ZRCL2/MAO/SIO2 NA ATIVIDADE E NAS PROPRIEDADES DE COPOLIMEROS DE ETILENO-PROPILENO. In: 10º CONGRESSO BRASILEIRO DE CATALISE, 1999, Salvador. Trabalhos Técnicos. Rio de Janeiro: IBP, 1999. p. 192-197.

12.
SALGADO, T. D. M. ; BAUMVOL, I. J. R. ; RADTKE, C. ; KRUG, C. ; STEDILE, F. C. . Effects of the surface deposition of nitrogen on the oxidation of silicon. In: NATO Workshop on, 1998, São Petersburgo. Fundamental Aspects of Ultrathin Dielectrics on Si-Based Devices. Dordrecht: Kluwer Academic Publishers, 1998.

13.
KRUG, C.; ROSA, M. B. ; SANTOS, J. H. Z. ; DUPONT, J. ; BAUMVOL, I. J. R. ; STEDILE, F. C. . AVALIACAO QUIMIOMETRICA DO EFEITO DE VARIAVEIS DE HETEROGENEIZACAO EM SISTEMAS CATALITICOS TIPO ET(IND)2ZRCL2/TMA/MAO/SIO2. In: 16º SIMPOSIO IBEROAMERICANO DE CATALISIS, 1998, Cartagena de Indias. Actas, 1998. p. 2009-2014.

Resumos expandidos publicados em anais de congressos
1.
T. S. Böscke ; Govindarajan, S. ; FACHMANN, C. ; HEITMANN, J. ; AVELLAN, A. ; SCHRODER, U. ; KUDELKA, S. ; KIRSCH, P. D. ; KRUG, C. ; HUNG, P. Y. ; SONG, S. C. ; JU, B. S. ; PRICE, J. ; PANT, G. . Tetragonal Phase Stabilization by Doping as an Enabler of Thermally Stable Tetragonal Phase Stabilization by Doping as an Enabler of Thermally Stable HfO2 based MIM and MIS Capacitors for sub 50nm Deep Trench DRAM. In: International Electron Devices Meeting, 2006, San Francisco. IEDM Proceedings, 2006. v. 52. p. 1-4.

2.
KIRSCH, P. D. ; QUEVEDO-LOPEZ, M. A. ; KRISHNAN, S. A. ; KRUG, C. ; ALSHAREEF, H. ; PARK, C. S. ; HARRIS, R. ; MOUMEN, N. ; NEUGROSCHEL, A. ; BERSUKER, G. ; LEE, B. H. ; WANG, J. G. ; PANT, G. ; GNADE, B. ; KIM, M. J. . Band Edge n-MOSFETs with High-k/Metal Gate Stacks Scaled to EOT=0.9nm with Excellent Carrier Mobility and High Temperature Stability. In: International Electron Devices Meeting, 2006, San Francisco. IEDM Proceedings, 2006. v. 52. p. 1-4.

3.
KRISHNAN, S. A. ; HARRIS, R. ; KIRSCH, P. D. ; KRUG, C. ; QUEVEDO-LOPEZ, M. A. ; YOUNG, C. ; LEE, B. H. ; CHOI, R. ; CHOWDHURY, N. ; SUTHRAM, S. ; THOMPSON, S. ; BERSUKER, G. ; JAMMY, R. . High Performing pMOSFETs on Si(110) for Application to Hybrid Orientation Technologies ? Comparison of HfO2 and HfSiON. In: International Electron Devices Meeting, 2006, San Francisco. IEDM Proceedings, 2006. v. 52. p. 1-4.

Resumos publicados em anais de congressos
1.
WEBER, T. ; BASSO, R. L. O. ; SOARES, G. V. ; BAUMVOL, I. J. R. ; Vasconcellos, M. A. Z. . Hysteresis effect and film characterization in DC reactive sputtering of titania and alumina. In: 11th International Conference on Advanced Materials, 2009, Rio de Janeiro. Abstracts of the 11th International Conference on Advanced Materials, 2009.

2.
WEBER, T. ; BASSO, R. L. O. ; Soares, Gabriel Vieira ; Baumvol, Israel Jacob Rabin ; Vasconcellos, M. A. Z. ; KRUG, C. . Deposition and characterization of DC reactive magnetron sputtered titania and alumina coatings. In: 10th International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation and Deposition, 2009, São José dos Campos. 10th International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation and Deposition, 2009.

3.
JOSHI, S. ; KRUG, C. ; HEH, D. ; NA, H. J. ; HARRIS, H. R. ; OH, J. W. ; KIRSCH, P. D. ; MAJHI, P. ; LEE, B. H. ; TSENG, H. H. ; JAMMY, R. ; LEE, J. C. ; BANERJEE, S. K. . Improved Ge Surface Passivation with Ultrathin SiOx Enabling High Mobility Surface Channel PMOSFETs Featuring a HfSiO/WN gate stack. In: 34th Conference on the Physics and Chemistry of Semiconductor Interfaces, 2007, Salt Lake City. PCSI Book of Abstracts, 2007. v. 34. p. 1-3.

4.
ALMEIDA, R. M. C. ; BAUMVOL, I. J. R. ; KRUG, C. ; GANEM, J.-J. ; TRIMAILLE, I. . A reaction-diffusion model for the thermal growth of silicon oxynitride films. In: Workshop on Surface Science, 2003, Porto Alegre. Book of Abstracts. Porto Alegre: Instituto de Física da UFRGS, 2003. p. 18-18.

5.
STEDILE, F. C. ; RADKTE, C. ; ROSA, E. B. O. ; KRUG, C. ; MORAIS, J. ; BAUMVOL, I. J. R. . Characterization by Ion Beams of Surfaces and Interfaces of Alternative Materials for Future Microelectronic Devices. In: International Conference on Solid Films and Surfaces ICSFS-11, 2002, Marselha. Proceedings of ICSFS-11, 2002.

6.
KRUG, C.; RADKTE, C. ; PEZZI, R. P. ; MORAIS, J. ; BAUMVOL, I. J. R. . Surface and interface characterization of nanometric JVD ZrSixOy films on Si submitted to thermal annealing for advanced MOS devices. In: 3rd Brazilian/German Workshop on Applied Surface Science, 2001, Itapema. 3rd Brazilian/German Workshop on Applied Surface Science, 2001. p. P1.16.

7.
ROSA, E. B. O. ; KRUG, C. ; ALMEIDA, R. M. C. ; MORAIS, J. ; BAUMVOL, I. J. R. ; SALGADO, T. D. M. ; STEDILE, F. C. . Surface and interface characterization of nanometric Al2O3 films on Si submitted to thermal annealing for advanced MOS devices. In: 3rd Brazilian/German Workshop on Applied Surface Science, 2001, Itapema. 3rd Brazilian/German Workshop on Applied Surface Science, 2001. p. P1.18.

8.
KRUG, C.; RADTKE, C. ; ROSA, E. B. O. ; PEZZI, R. P. ; MIOTTI, L. ; BRANDAO, R. ; STEDILE, F. C. ; MORAIS, J. ; SALGADO, T. D. M. ; BAUMVOL, I. J. R. . Atomic transport and chemical reaction studies in ultrathin dielectric films on Si and on SiC. In: Inter-American Workshop on the use of Synchrotron Radiation for Research and Symposium on Nanotechnologies, 2001, Campinas. Abstracts. Campinas: Laboratório Nacional de Luz Síncrotron, 2001.

9.
ROSA, E. B. O. ; KRUG, C. ; RADTKE, C. ; PEZZI, R. P. ; MIOTTI, L. ; BRANDAO, R. ; STEDILE, F. C. ; SALGADO, T. D. M. ; MORAIS, J. ; BAUMVOL, I. J. R. . Surface and Interface Investigation of Nanometric Dielectric Films on Si and on SiC. In: Thirteenth International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics, 2001, Trieste. Book of Abstracts, 2001. p. Tu055.

10.
KRUG, C.; BASTOS, K. P. ; STEDILE, F. C. ; ALMEIDA, R. M. C. ; BAUMVOL, I. J. R. . Modeling the growth kinetics of silicon oxynitride films and the behavior of high-k films on Si upon annealing in O2. In: International Workshop on Device Technology, 2001, Porto Alegre. Book of Abstracts. Porto Alegre: Instituto de Física da UFRGS, 2001. p. 7.

11.
ROSA, E. B. O. ; KRUG, C. ; STEDILE, F. C. ; SALGADO, T. D. M. ; MORAIS, J. ; BAUMVOL, I. J. R. . Narrow nuclear resonance profiling of Al with subnanometric depth resolution. In: 15th International Conference on Ion Beam Analysis, 2001, Cairns. Final Program and Abstracts, 2001. p. P1-36.

12.
STEDILE, F. C. ; SANTOS, J. H. Z. ; CAMPEZATTO, M. T. ; VAGHETTI, J. C. P. ; SEIBERT, A. ; BAUMVOL, I. J. R. ; KRUG, C. . Optimization of PIGE for determination of the Al/Si ratio in Al-based cocatalyst systems supported on silica grains using a BGO detector. In: 15th International Conference on Ion Beam Analysis, 2001, Cairns. Final Program and Abstracts, 2001. p. P3-57.

13.
KRUG, C.; SALGADO, T. D. M. ; STEDILE, F. C. ; BAUMVOL, I. J. R. . Low energy nitridation of Si and SiO2/Si for gate dielectric fabrication. In: 12th International Conference on Ion Beam Modification of Materials, 2000, Canela. Abstracts. Porto Alegre: UFRGS, 2000. p. 46.

14.
KRUG, C.; RADTKE, C. ; STEDILE, F. C. ; BAUMVOL, I. J. R. . Isotope-selective low energy modification of materials. In: 12th International Conference on Ion Beam Modification of Materials, 2000, Canela. Abstracts. Porto Alegre: UFRGS, 2000. p. 187.

15.
FONTES, A. W. ; KRUG, C. ; SANTOS, J. H. Z. ; SILVA, M. M. ; ARAÚJO, M. A. ; PETZHOLD, C. L. . AVALIACAO QUIMIOMETRICA DA MIGRACAO DE CHUMBO IMOBILIZADO EM MATRIZES DE CIMENTO MODIFICADAS COM POLIMEROS. In: 11º SALAO DE INICIACAO CIENTIFICA, 1999, Porto Alegre. Livro de Resumos. Porto Alegre: UFRGS, 1999. p. 25.

16.
SCHMITZ, M. A. ; ANDRADE, J. ; KRUG, C. ; SALGADO, T. D. M. . REATOR DE TRATAMENTO TERMICO RAPIDO PARA INVESTIGACAO DE DIELETRICOS ULTRAFINOS. In: 11º SALAO DE INICIACAO CIENTIFICA, 1999, Porto Alegre. Livro de Resumos. Porto Alegre: UFRGS, 1999. p. 43.

17.
RADTKE, C. ; KRUG, C. ; ANDRADE, J. ; STEDILE, F. C. ; SALGADO, T. D. M. ; BAUMVOL, I. J. R. . ESTUDO FISICO-QUIMICO DA ESTRUTURA OXIDO/NITRETO/OXIDO. In: 10º SALAO DE INICIACAO CIENTIFICA, 1998, Porto Alegre. Livro de Resumos. Porto Alegre: UFRGS, 1998. p. 15.

18.
KRUG, C.; ANDRADE, J. ; SALGADO, T. D. M. ; STEDILE, F. C. ; BAUMVOL, I. J. R. . PREPARACAO DE FILMES ULTRAFINOS DE OXINITRETO DE SILICIO POR IMPLANTACAO DE NITROGENIO A BAIXAS ENERGIAS. In: 10º SALAO DE INICIACAO CIENTIFICA, 1998, Porto Alegre. Livro de Resumos. Porto Alegre: UFRGS, 1998. p. 16.

19.
KRUG, C.; ROSA, M. B. ; SANTOS, J. H. Z. ; DUPONT, J. ; STEDILE, F. C. ; BAUMVOL, I. J. R. . SISTEMAS CATALITICOS TIPO ET(IND)2ZRCL2/TMA/MAO/SIO2OGENEIZACAO EM. In: 21ª REUNIAO ANUAL DA SOCIEDADE BRASILEIRA DE QUIMICA, 1998, Poços de Caldas. Livro de Resumos. São Paulo: SBQ, 1998. p. CT021.

20.
SALGADO, T. D. M. ; STEDILE, F. C. ; RADTKE, C. ; KRUG, C. . INFLUENCIA DA DEPOSICAO SUPERFICIAL DE NITROGENIO NA CINETICA DE OXIDACAO DO SILICIO. In: 21ª REUNIAO ANUAL DA SOCIEDADE BRASILEIRA DE QUIMICA, 1998, Poços de Caldas. Livro de Resumos. São Paulo: SBQ, 1998. p. QM109.

21.
KRUG, C.; ROSA, M. B. ; SALGADO, T. D. M. ; SANTOS, J. H. Z. . EFEITO DAS CONDICOES DE GRAFTING SOBRE AS PROPRIEDADES DE SISTEMAS CATALITICOS HETEROGENEOS TIPO ET(IND)2ZRCL2/TMA/MAO/SIO2. In: 9º SALAO DE INICIACAO CIENTIFICA, 1997, Porto Alegre. Livro de Resumos. Porto Alegre: UFRGS, 1997. p. 15.

22.
ROSA, M. B. ; KRUG, C. ; STEDILE, F. C. ; SANTOS, J. H. Z. ; FORTE, M. C. ; BAUMVOL, I. J. R. . EFEITO DA TEMPERATURA DE ATIVACAO DO SUPORTE SOBRE A ATIVIDADE CATALITICA DE METALOCENO ANCORADO EM SILICA. In: 5º ENCONTRO DE QUIMICA DA REGIAO SUL, 1997, Porto Alegre. Livro de Resumos. Porto Alegre: SBQ-Sul, 1997. p. QI-04.

23.
SANTOS, J. H. Z. ; STEDILE, F. C. ; LARENTIS, A. ; ROSA, M. B. ; KRUG, C. ; BAUMVOL, I. J. R. ; FORTE, M. C. . Metallocenes supported on silica: RBS and FT-IR surface characterization. In: 37th International Conference on Analytical Sciences and Spectroscopy, 1997, Montreal. Abstracts, 1997. p. 37.

24.
KRUG, C.; SILVEIRA, D. C. ; STEFANI, V. . APLICACAO DE COMPOSTOS NAFTALENICOS A SINTESE DE CORANTES LASER. In: 8º SALAO DE INICIACAO CIENTIFICA, 1996, Porto Alegre. Livro de Resumos. Porto Alegre: UFRGS, 1996. p. 32.

25.
KRUG, C.; LUFT, D. ; FENSTERSEIFER, A. O. ; SILVEIRA, D. C. ; STEFANI, V. . CONTRIBUICOES A SINTESE DO ACIDO 2,5-DIHIDROXITEREFTALICO E DERIVADOS. In: 7º SALAO DE INICIACAO CIENTIFICA, 1995, Porto Alegre. LIVRO DE RESUMOS. Porto Alegre: UFRGS, 1995. p. 36.

26.
STEFANI, V. ; SOUTO, A. A. ; DOMINGUES JR, N. S. ; KRUG, C. . SINTESE DE DERIVADOS 2,5 DISSUBSTITUIDOS DE ACIDO TEREFTALICO, UTEIS NA OBTENCAO DE CORANTES PARA LASER. In: 17ª REUNIAO ANUAL DA SOCIEDADE BRASILEIRA DE QUIMICA, 1994, Caxambu. LIVRO DE RESUMOS. São Paulo: SBQ, 1994. p. QO-15.

27.
KRUG, C.; DOMINGUES JR, N. S. ; LIVOTTO, P. R. ; STEFANI, V. . ESTUDO COMPUTACIONAL DO EFEITO DE SUBSTITUINTES NO ESPECTRO DE ABSORCAO DO ACIDO 4-(2'-BENZIMIDAZOLIL)-2,5-DIHIDROXIBENZOICO. In: 34º CONGRESSO BRASILEIRO DE QUIMICA, 1994, Porto Alegre. Livro de Resumos. São Paulo: ABQ, 1994. p. 155.

28.
MARCHIONI, R. ; PEREIRA, E. D. ; KRUG, C. ; STEFANI, V. ; SCHUCH, M. . Isolamento de subprodutos quinonicos da sintese da SINTESE DA 5-AMINO-8-HIDROXI-1,4-NAFTOQUINONA. In: 6º SALAO DE INICIACAO CIENTIFICA, 1994, Porto Alegre. Livro de Resumos. Porto Alegre: UFRGS, 1994. p. 40.

Apresentações de Trabalho
1.
Tararam, R. ; Jacobsen, S. ; Petitprez, E. ; Krug, C. ; Coelho, A. ; Lubaszewski, M. . Layers Decoration on FIB cross-sections using XeF2 delineation etch. 2016. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

2.
Jacobsen, S. ; Petitprez, E. ; Tararam, R. ; Coelho, A. ; Krug, C. ; Lubaszewski, M. . Elemental composition and morphological characterization of edited integrated circuit metallic lines deposited by focused ion beam. 2015. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

3.
Petitprez, E. ; Tararam, R. ; Rodrigues, R. ; Krug, C. ; Lubaszewski, M. . Observation of submicron via in integrated circuit by scanning ion and electron microscopy. 2014. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

4.
Corrêa, S. A. ; Marmitt, G. G. ; Bom, N. M. ; da Rosa, A. T. ; STEDILE, F. C. ; RADTKE, C. ; KRUG, C. ; Soares, G. V. ; BAUMVOL, I. J. R. ; Gobbi, A. L. . Thermally driven interface chemistry and structural modification of Al2O3 nanolaminates deposited on 4H-SiC. 2009. (Apresentação de Trabalho/Comunicação).

5.
RADTKE, C. ; Corrêa, S. A. ; STEDILE, F. C. ; Soares, G. V. ; KRUG, C. ; ROSA, E. B. O. ; BAUMVOL, I. J. R. ; PEZZI, R. P. . Evidence of the interaction of oxidation by-products of 4H-Sic with SiO2. 2008. (Apresentação de Trabalho/Comunicação).

6.
RADKTE, C. ; Corrêa, S. A. ; STEDILE, F. C. ; Soares, Gabriel V. ; KRUG, C. ; ROSA, E. B. O. ; BAUMVOL, I. J. R. ; PEZZI, R. P. . How oxidation by-products of 4H-SiC interact with the SiO2 overlayer?. 2008. (Apresentação de Trabalho/Comunicação).

7.
MIOTTI, L. ; BASTOS, K. P. ; RADTKE, C. ; KRUG, C. ; BAUMVOL, I. J. R. . Stabilization of lanthanum aluminum oxide gate dielectric by nitrogen incorporation. 2008. (Apresentação de Trabalho/Comunicação).

8.
Corrêa, S. A. ; RADTKE, C. ; da Rosa, A. T. ; Soares, G. V. ; BAUMVOL, I. J. R. ; KRUG, C. ; STEDILE, F. C. . C-containing compounds at the SiO2/SiC interface. 2008. (Apresentação de Trabalho/Comunicação).

9.
KRUG, C.. Ion beam characterization of gate dielectrics for nanoelectronics. 2007. (Apresentação de Trabalho/Conferência ou palestra).



Bancas



Participação em bancas de trabalhos de conclusão
Mestrado
1.
Agnes, E. J.; Brunnet, L. G.; Copelli, M.; Stariolo, D. Á.; KRUG, C.. Participação em banca de Everton João Agnes. Regimes de Atividade e Sincronização em Neurônios de Rulkov. 2010. Dissertação (Mestrado em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

2.
JORNADA, F. H.; PEROTTONI, C. A.; STASSEN, H. K.; PUREUR NETO, P.; KRUG, C.. Participação em banca de Felipe Homrich da Jornada. Propriedades elásticas de redes contínuas aleatórias de carbono geradas por simulated annealing. 2010. Dissertação (Mestrado em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

3.
DIAS, T.; SOMMER, R. L.; BALZARETTI, N. M.; KRUG, C.; GESHEV, J. P.. Participação em banca de Thiago Dias. Controle de fase do exchange bias em filmes de Co/IrMn/Cu/Co. 2010. Dissertação (Mestrado em Ciências dos Materiais) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

4.
MARTINS, J.D.N.; CANTO, L. B.; PETZHOLD, C. L.; KRUG, C.. Participação em banca de Johnny De Nardi Martins. Preparação e caracterização de nanocompositos de poli(fluoreto de vinilideno) com POSS e nanotubos de carbono. 2010. Dissertação (Mestrado em Ciências dos Materiais) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

5.
SORTICA, M. A.; GRANDE, P. L.; ADDED, N.; BALZARETTI, N. M.; Krug, Cristiano. Participação em banca de Mauricio de Albuquerque Sortica. Caracterização de nanoestruturas através da técnica de MEIS. 2009. Dissertação (Mestrado em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

6.
LUCE, F. P.; ZAWISLAK, F. C.; FICHTNER, P. F. P.; SCHELP, L. F.; FELDMANN, G.; KRUG, C.. Participação em banca de Flavia Piegas Luce. Nucleação e Crescimento de Grãos em Filmes de Al Nanoestruturados. 2008. Dissertação (Mestrado em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

7.
TAVARES, L.; PEREIRA, A. S.; BALZARETTI, N. M.; GARCIA, F.; PUREUR NETO, P.; KRUG, C.. Participação em banca de Luciana Tavares. Estudo sobre Composição de Fases e Propriedades do FePO4 Processado em Altas Pressões. 2008. Dissertação (Mestrado em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

8.
PRADO, S. D.; BARAVIERA, A. T.; RIZZATO, F. B.; Krug, C.. Participação em banca de Ricardo Mariense Wickert. Teoria de órbitas periódicas no espectro e condutância de grafos quânticos. 2008. Dissertação (Mestrado em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

9.
CATAFESTA, J.; ZORZI, J. E.; PEROTTONI, C. A.; PEREIRA, A. S.; KRUG, C.; CRUZ, R.. Participação em banca de Jadna Catafesta. Expansão Térmica Sintonizável do ZrW2O8. 2007. Dissertação (Mestrado em Programa de Pós-Graduação em Materiais) - Universidade de Caxias do Sul.

10.
BECKER, A. N.; OLIVEIRA, E. P. M.; HINRICHS, R.; LUISI, S. B.; LIMONGI, O.; KRUG, C.. Participação em banca de Alex Niederauer Becker. Efeito da implantação de íons nitrogênio em limas rotatórias de níquel-titânio submetidas ao uso em canais simulados. 2007. Dissertação (Mestrado em Odontologia) - Universidade Luterana do Brasil.

Teses de doutorado
1.
PALMIERI, R.; RADTKE, C.; FRATESCHI, N. C.; MOEHLECKE, A.; ERICHSEN JUNIOR, R.; KRUG, C.. Participação em banca de Rodrigo Palmieri. Caracterização elétrica e físico-química de estruturas dielétrico/4H-SiC obtidas por oxidação térmica. 2009. Tese (Doutorado em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

Qualificações de Doutorado
1.
STEDILE, F. C.; T. M. H. Costa; KRUG, C.; Weibel, D. E.. Participação em banca de Rajajeyaganthan Ramanathan. Surface Functionalization of Materials Using Electromagnetic Radiation for Hydrophilicity and Using Silanes for Superhydrophobicity. 2012. Exame de qualificação (Doutorando em Química) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

2.
F. G. L. Kastensmidt; F. M. Echeto; KRUG, C.; R. P. Ribas; A. I. Reis. Participação em banca de Vinícius Dal Bem. Ambiente de CAD para Otimização de Blocos Configuráveis por Máscara Voltados à Litografia. 2012. Exame de qualificação (Doutorando em Microeletrônica) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

3.
Wanke, C. H.; Horowitz, F.; Weibel, D. E.; Krug, C.; da Silveira, N. P.; Santana, R. M. C.. Participação em banca de Cesar Henrique Wanke. Estudo da hidrofobicidade de superfícies poliméricas modificadas. 2010. Exame de qualificação (Doutorando em Ciências dos Materiais) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

4.
WEBER, T.; Krug, C.; KWIETNIEWSKI, C. E. F.; Vasconcellos, M. A. Z.; FICHTNER, P. F. P.. Participação em banca de Tatiana Weber. Revestimentos nanolaminados Al2O3/TiO2 para aplicações tribológicas extremas. 2010. Exame de qualificação (Doutorando em Ciências dos Materiais) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

5.
KREMER, F.; ZAWISLAK, F. C.; PASA, A. A.; PINO, G. G. M.; KRUG, C.. Participação em banca de Felipe Kremer. Formação de ilhas metálicas de Sn e Pb em interfaces SiO2/Si e SiO2/SiN via implantação iônica e tratamento térmico. 2009. Exame de qualificação (Doutorando em Programa de Pós Graduação em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

6.
PALMIERI, R.; BOUDINOV, H. I.; RADTKE, C.; SOUZA, J. S.; GAY, M. B. L.; KRUG, C.. Participação em banca de Rodrigo Palmieri. Caracterização da interface SiO2/4H-SiC. 2008. Exame de qualificação (Doutorando em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

7.
KRUG, C.; STEDILE, F. C.; PRIOLI, R.; LUBASZEWSKI, M. S.. Participação em banca de Gabriel Vieira Soares. Propriedades físico-químicas e características elétricas de estruturas dielétrico/SiC submetidas a diferentes tratamentos térmicos visando a passivação de defeitos eletricamente ativos. 2007. Exame de qualificação (Doutorando em PGMICRO) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul.



Participação em bancas de comissões julgadoras
Outras participações
1.
KRUG, C.. XXI Salão de Iniciação Científica. 2009. Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

2.
CAPELETTI, L. B.; SANTOS, J. H. Z.; PIATNICKI, C. M. S.; KRUG, C.. Sensores de pH sintetizados pelo método sol-gel. 2009. Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

3.
KRUG, C.. XIX Salão de Iniciação Científica. 2007. Universidade Federal do Rio Grande do Sul.

4.
KRUG, C.. 22a Mostra Internacional de Ciência e Tecnologia. 2007. Fundação Escola Técnica Liberato Salzano Vieira da Cunha.



Eventos



Participação em eventos, congressos, exposições e feiras
1.
Workshop Brasil-Portugal de Cooperação Internacional em Nanotecnologia.Nanociência no Instituto de Física da UFRGS. 2010. (Seminário).

2.
Ciclo de Palestras do Instituto de Física na Livraria Cultura.Nanoeletrônica e a tecnologia do silício. 2009. (Encontro).

3.
IInternational Conference on Silicon Carbide and Related Materials. Thermally driven interface chemistry and structural modification of Al2O3 nanolaminates deposited on 4H-SiC. 2009. (Congresso).

4.
Regional Conference of Young Scientists of TWAS-ROLAC.Mechanisms of formation and degradation of dieletric nanostructures on semiconductors. 2009. (Encontro).

5.
International Conference on Nanostructured Materials. C-containing compounds at the SiO2/SiC interface. 2008. (Congresso).

6.
International Conference on the Physics of Semiconductors. How oxidation by-products of 4H-SiC interact with the SiO2 overlayer?. 2008. (Congresso).

7.
Materials Research Society Spring Meeting. Evidence of the interaction of oxidation by-products of 4H-Sic with SiO2. 2008. (Congresso).

8.
Reunião Anual da Sociedade Brasileira de Química. Estabilidade química dos oxicarbetos de silício gerados no crescimento térmico de filmes de oxido de silício sobre carbeto de silício. 2008. (Congresso).

9.
Avanços e Perspectivas da Ciência no Brasil.Surface passivation of silicon and germanium for nanoeletronics. 2007. (Seminário).

10.
XXX Reunião de Trabalho sobre Física Nuclear no Brasil.Ion beam characterization of gate dielectrics for nanoelectronics. 2007. (Encontro).

11.
Workshop on Nanostructured Coatings.Surface and Interface Analysis at UFRGS. 2006. (Seminário).


Organização de eventos, congressos, exposições e feiras
1.
KRUG, C.; BALZARETTI, N. M. ; Soares, G. V. ; AZEVEDO, G. M. ; PEREIRA, M. B. ; PEZZI, R. P. ; CARDOSO, C. A. ; MOREIRA, F. M. A. . VI Simpósio Brasileiro de Engenharia Física. 2010. (Congresso).

2.
DEPPMAN, A. ; KRUG, C. ; ZAHN, G. S. ; LUBIAN, J. ; PIRES, K. C. C. ; ADDED, N. ; TIMÓTEO, V. S. . XXXII Reunião de Trabalho sobre Física Nuclear no Brasil. 2009. (Congresso).

3.
TABACNIKS, M. H. ; ADDED, N. ; SANTOS, P. R. ; KRUG, C. . XV Escola de Verão "Jorge André Swieca" de Física Nuclear Experimental. 2008. (Outro).



Orientações



Orientações e supervisões concluídas
Dissertação de mestrado
1.
Jumir Vieira de Carvalho Junior. Passivação Superficial de Germânio para Aplicações em Nanoeletrônica. 2009. Dissertação (Mestrado em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul, Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico. Orientador: Cristiano Krug.

Tese de doutorado
1.
Chiara das Dores do Nascimento. Correlação entre Propriedades Elétricas e Estruturais em Filmes Finos de Sulfeto de Cádmio Produzidos por Ablação a Laser. 2014. Tese (Doutorado em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul, Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior. Orientador: Cristiano Krug.

Trabalho de conclusão de curso de graduação
1.
Bruna Bressan Valentini. Estimativa de dose na entrada da pele em procedimentos mamográficos. 2008. Trabalho de Conclusão de Curso. (Graduação em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul. Orientador: Cristiano Krug.

Iniciação científica
1.
Masahiro Hatori. Nanociência de semicondutores. 2009. Iniciação Científica. (Graduando em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul, Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico. Orientador: Cristiano Krug.

2.
Ivan Rodrigo Kaufmann. Passivação Superficial do Germânio para Tecnologia Eletrônica Avançada. 2008. Iniciação Científica. (Graduando em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul, Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado do Rio Grande do Sul. Orientador: Cristiano Krug.

3.
Cristina Gavazzoni. Nanoestruturas Metal/Dielétrico/Semicondutor para Tecnologia Eletrônica Avançada. 2008. Iniciação Científica. (Graduando em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul, Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado do Rio Grande do Sul. Orientador: Cristiano Krug.

4.
Juliana Zacharias Paukowski. Nanociência de Semicondutores. 2008. Iniciação Científica. (Graduando em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul. Orientador: Cristiano Krug.

5.
Nicolau Molina Bom. Filmes dielétricos sobre carbeto de silício. 2007. Iniciação Científica. (Graduando em Física) - Universidade Federal do Rio Grande do Sul. Orientador: Cristiano Krug.




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