Rede de Colaboração

Vaclav Hajek

possui graduação em PROCESSOS FÍSICOS E TECNOLÓGICOS pela University of West Bohemia (1995) , mestrado em FÍSICA pela University of West Bohemia (1995) , doutorado em Fisica de plasma e filmes finos pela University of West Bohemia (1999) e pós-doutorado pela Ecole Polytechnique de Montreal (2000) . Atualmente é Pesquisador visitante da Universidade Federal do Rio Grande do Norte. Tem experiência na área de Física , com ênfase em Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas.
(Texto gerado automaticamente pela aplicação CVLattes)

Última atualização do currículo em 11/11/2005
Endereço para acessar este CV:
http://lattes.cnpq.br/8280362213140851
Dados pessoais
NomeVaclav Hajek
Nome em citações bibliográficasHAJEK, V.
SexoMasculino
Endereço profissionalUniversidade do Estado de Santa Catarina.
LabPlasma
89223-100 - Joinville, SC - Brasil

Formação acadêmica/Titulação
1999 - 2000Pós-Doutorado .
Ecole Polytechnique de Montreal.
1995 - 1999Doutorado em Fisica de plasma e filmes finos .
University of West Bohemia.
Título: Deposition of thin carbon nitride films, Ano de Obtenção: 1999.
Orientador: Jaroslav Vlcek.
1990 - 1995Mestrado em FÍSICA .
University of West Bohemia.
Título: Problems dealing with the development of beta-C3N4 material, interpretation of analyses of thin films based on CNx, Ano de Obtenção: 1995.
Orientador: Karel Rusnak.
1990 - 1995Graduação em PROCESSOS FÍSICOS E TECNOLÓGICOS .
University of West Bohemia.

Atuação profissional
Universidade Federal do Rio Grande do Norte, UFRN, Brasil.
Vínculo institucional
2001 - Atual Vínculo: Professor Visitante, Enquadramento Funcional: Pesquisador visitante, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Atividades
09/2001 - AtualPesquisa e desenvolvimento , Centro de Ciências Exatas, Departamento de Física Teórica e Experimental.
Linhas de pesquisa
Tratamento e revestimento de superficies
Caracterização de plasma por espectroscopia de emissão ótica
Caracterização de superficies e filmes finos

Linhas de Pesquisa
1. Tratamento e revestimento de superficies
2. Caracterização de plasma por espectroscopia de emissão ótica
3. Caracterização de superficies e filmes finos

Áreas de atuação
1. Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas / Especialidade: Física de Plasmas e Descargas Elétricas.
2. Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada / Especialidade: Física de Superficies e Filmes Finos.
3. Grande área: Engenharias / Área: Engenharia Mecânica / Subárea: Processos de Fabricação / Especialidade: Fabricação de Filmes Finos por Plasma.
4. Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Ciência e Tecnologia de Vácuo.
5. Grande área: Engenharias / Área: Engenharia de Materiais e Metalúrgica / Subárea: Metalurgia de Transformação / Especialidade: Tratamentos Térmicos, Mecânicos e Químicos.
6. Grande área: Engenharias / Área: Engenharia de Materiais e Metalúrgica / Subárea: Metalurgia Física / Especialidade: Caracterização de Superficies e Filmes Finos.

Idiomas
Alemão Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Razoavelmente.
Francês Compreende Razoavelmente, Fala Razoavelmente, Lê Bem, Escreve Pouco.
Português Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Razoavelmente.
Inglês Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.
Russo Compreende Bem, Fala Razoavelmente, Lê Bem, Escreve Razoavelmente.
Tcheco Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.
Espanhol Compreende Razoavelmente, Fala Razoavelmente, Lê Razoavelmente, Escreve Pouco.


Produção em C,T & A
Produção bibliográfica
Artigos completos publicados em periódicos
1. ALVES JR., C. ; GUERRA NETO, C. L. B. ; MORAIS, G. H. S. ; SILVA, C. F. ; HAJEK, V. . Nitriding of titanium discs and industrial dental implants using hollow cathode discharge. Surface and Coatings Technology, v. 194, p. 196-202, 2005.
2. ALVES JR., C. ; HAJEK, V. ; SANTOS, C. A. . Thermal behavior of supersolidus bronze powder compacts during heating by hollow cathode discharge. Materials Science & Engineering. A, Structural Materials: properties, microstructure and processing, v. 348, p. 84-89, 2003.
3. ATAIDE, A. R. P. ; ALVES JR., C. ; HAJEK, V. ; LEITE, J. P. . Effects during plasma nitriding of shaped materials of different sizes. Surface and Coatings Technology, v. 167, p. 52-58, 2003.
4.   VLCEK, J. ; RUSNAK, K. ; HAJEK, V. ; MARTINU, L. . New approach to understanding the reactive magnetron sputtering of hard carbon nitride films. Diamond and Related Materials, v. 9, p. 582-586, 2000.
5.   HAJEK, V. ; RUSNAK, K. ; VLCEK, J. ; MARTINU, L. ; GUJRATHI, S. C. . Influence of rf substrate bias voltage on the properties of CNx films prepared by reactive magnetron sputtering. Journal of Vacuum Science and Technology. Part A. Vacuum, Surfaces and Films, v. 17, n. 3, p. 899-908, 1999.
6. RATS, D. ; HAJEK, V. ; MARTINU, L. . Microscratch analyses and mechanical properties of plasma-deposited silicon-based coatings on polymer substrates. Thin Solid Films, v. 340, p. 33-39, 1999.
7.   VLCEK, J. ; RUSNAK, K. ; HAJEK, V. ; MARTINU, L. . Reactive magnetron sputtering of CNx films: ion bombardment effects and characterization of the process using optical emission spectroscopy. Journal of Applied Physics, v. 86, p. 3646-3654, 1999.
8.   HAJEK, V. ; RUSNAK, K. ; VLCEK, J. ; MARTINU, L. ; HAWTHORNE, H. . Tribological study of CNx films prepared by reactive dc magnetron sputtering. Wear, v. 213, p. 80-89, 1997.
Trabalhos completos publicados em anais de congressos
1. MEDEIROS, F. F. P. ; ALVES, M. B. M. ; PEREIRA, M. F. ; ALVES JR., C. ; JUSTO, J. L. A. ; HAJEK, V. . Obtencao de Po de Tungstenio (Tungstenio Metalico) nanoestruturado a partir da reacao entre o APT e a mistura de plasma H2/CH4. In: XVI Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais, 2004, Porto Alegre. Abstratos, 2004.
2. GOMES, U. U. ; ALVES JR., C. ; SOUZA JR., C. F. ; HAJEK, V. ; COSTA, F. A. ; AMBROZIO FILHO, F. . Sintering of W-Cu composite material by hollow cathode discharge. In: International Conference on Powder Metallurgy & Particulate Materials, 2002, Orlando. PM2TEC - 2002, 2002. v. 13. p. 237-244.
3. ALMEIDA, E. O. ; ALVES JR., C. ; HAJEK, V. . Revestimento de Cu usando jato de plasma obtido em descarga por catodo oco. In: XV Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais, 2002, Natal. XV CBECIMAT, 2002. v. TC 308. p. 4647-4652.
4. SILVA, G. G. ; ALVES JR., C. ; HAJEK, V. ; SILVA, A. G. P. . Reducao do WO3 em leito de plasma fluidizado. In: XV Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais, 2002, Natal. XV CBECIMAT, 2002. v. TC 307. p. 4352-4357.
5. FROTA, T. M. P. ; LIMA, E. C. ; BRITO, R. A. ; ALVES JR., C. ; HAJEK, V. . Microestrutura de bronze de aluminio sinterizado a plasma. In: XV Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais, 2002, Natal. XV CBECIMAT, 2002. v. TC 307. p. 4210-4216.
6. RIBEIRO, K. J. B. ; ALVES JR., C. ; HAJEK, V. ; GOMES, U. U. ; COSTA, F. A. . Gradiente de funcao obtido em pastilhas de W-Cu sinterizadas em plasma. In: XV Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais, 2002, Natal. XV CBECIMAT, 2002. v. TC 307. p. 4066-4072.
7. ATAIDE, A. R. P. ; ALVES JR., C. ; HAJEK, V. ; LEITE, J. P. . Correlacao termica em superficies de pecas com diferentes alturas tratadas a plasma. In: XV Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais, 2002, Natal. XV CBECIMAT, 2002. v. TC 308. p. 4547-4553.
8. SOUZA JR., C. F. ; ALVES JR., C. ; HAJEK, V. ; SINKA, V. . Avaliação das grandezas térmicas durante o aquecimento de sólidos imersos em plasma. In: XV Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciência dos Materiais (XV CBECIMAT), 2002, Natal. XV CBECIMAT, 2002.
9.   MARTINU, L. ; LATRECHE, M. ; HAJEK, V. ; KLEMBERG-SAPIEHA, J. E. ; ARGOITIA, A. ; BEAUCHAMP, W. T. . Search for high index PECVD optical coating materials: the case of titanium dioxide. In: Society of Vacuum Coaters 43rd Annual Technical Conference, 2000, Denver, USA. Proceedings of Contribution Papers, 2000.
10. VLCEK, J. ; RUSNAK, K. ; HAJEK, V. ; MARTINU, L. . Characterization of ion bombardment and optical emission spectroscopy in magnetron discharges for reactive sputtering of hard carbon nitride films. In: 7 th International Symposium on Trends and Applications of Thin Films (TAFT 2000), 2000, Nancy, France. Proceedings of Contribution Papers, 2000. v. 7. p. 117-119.
11. VLCEK, J. ; RUSNAK, K. ; HAJEK, V. . Emission spectroscopy in deposition zone of the magnetron sputtering system for the preparation of carbon nitride films. In: XXIII th International Conference on Phenomena in Ionized Gases, 1997, Toulouse, France. Proc. XXIII th Int. Conf. on Phen. in Ioniz. Gases, 1997. v. IV. p. 258-259.
12. HAJEK, V. ; RUSNAK, K. ; WELZEL, T. . Reactive magnetron sputtering of CNx films with rf substrate bias voltage. In: 4th Annual Conference of Doctoral Students (WDS'95), 1995, Prague, Republika Tcheca. Proceedings of Contribution Papers, 1995. p. 211-216.
Resumos publicados em anais de congressos
1. HAJEK, V. ; MARTINU, L. . Investigation of the possibility of synthesizing superhard beta-C3N4 using microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (MPECVD) technique. In: XXVII Encontro Nacional de Fisica da Materia Condensada, 2004, Poços de Caldas. Abstratos, 2004.
2. HAJEK, V. . Camadas Protetoras - Metodos de deposicao de filmes finos por tecnicas PVD e CVD. In: 2 Congresso em Ciencia de Materiais do Mercosul, 2004, Joinville. Abstratos, 2004.
3. HAJEK, V. ; VLCEK, J. ; RUSNAK, K. ; MARTINU, L. . The structure - mechanical properties relationship of carbon nitride films prepared by magnetron sputtering at elevated temperature of about 600 deg. C. In: X Latin American Workshop on Plasma Physics combined with 7th Brazilian Meeting on Plasma Physics, 2003, São Pedro (SP). Program and Abstracts, 2003. p. 90-91.
4. ALMEIDA, E. O. ; ALVES JR., C. ; HAJEK, V. . Development of new hollow cathode generated plasma jet system and its testing for the deposition of thin metal films. In: X Latin American Workshop on Plasma Physics combined with 7th Brazilian Meeting on Plasma Physics, 2003, São Pedro. Program and Abstracts, 2003. p. 108.
5. ALMEIDA, E. O. ; ALVES JR., C. ; HAJEK, V. . Revestimento de Cu usando jato de plasma obtido em descarga por catodo oco. In: XXVI Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada, 2003, Caxambu (MG). Resumos, 2003. p. 399.
6. ALMEIDA, E. O. ; ALVES JR., C. ; HAJEK, V. . Desenvolvimento de um sistema a jato de plasma obtido em caodo oco para deposicao de filmes finos. In: XX Encontro de Fisicos do Norte e Nordeste, 2002, Recife. Abstratos, 2002.
7. VLCEK, J. ; KORMUNDA, M. ; CIZEK, J. ; HAJEK, V. . Magnetron sputtering of hard C-N and Si-C-N films and their properties. In: Sixth Applied Diamond Conference, Second Frontier Carbon Technology Joint Conference, 2001, Auburn, USA. Abstracts, 2001.
8. MARTINU, L. ; LATRECHE, M. ; HAJEK, V. ; KLEMBERG-SAPIEHA, J. E. ; ARGOITIA, A. ; BEAUCHAMP, W. T. . Optical, micro-mechanical and structural characteristics of high index PECVD optical coatings: the titanium dioxide. In: International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF-2000), 2000, San Diego, USA. Book of Abstracts, 2000.
9. HAJEK, V. ; LATRECHE, M. ; KLEMBERG-SAPIEHA, J. E. ; MARTINU, L. ; ARGOITIA, A. ; BEAUCHAMP, W. T. . Structural characterization of high and low index PECVD optical coating materials: the case of titanium dioxide and silicon dioxide. In: 47th International Symposium of American Vacuum Society, 2000, Boston, USA. Abstracts, 2000.
10. HAJEK, V. ; RUSNAK, K. ; VLCEK, J. ; MARTINU, L. ; GUJRATHI, S. C. . Effect of hydrogen on the mechanical properties of CNx films and their possible fullerene-like microstructure. In: International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF-99), 1999, San Diego, USA. Book of Abstracts, 1999. p. 59.
11. VLCEK, J. ; RUSNAK, K. ; HAJEK, V. . Reactive magnetron sputtering of carbon nitride films - characterization of ion bombardment and optical emission spectroscopy in deposition zone. In: International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF-99), 1999, San Diego, USA. Book of Abstracts, 1999. p. 89.
12. HAJEK, V. ; POITRAS, D. ; DALACU, D. ; BERGERON, A. ; MARTINU, L. ; RUSNAK, K. ; VLCEK, J. . Optical characteristics of carbon nitride: relationship with mechanical behavior and possible fullerene-like microstructure. In: 46th International Symposium of American Vacuum Society, 1999, Seattle, USA. Abstracts, 1999. p. 43.
13. VLCEK, J. ; RUSNAK, K. ; HAJEK, V. . Reactive magnetron sputtering of CNx films and its characterization using optical emission spectroscopy. In: Sixth International Conference on Plasma Surface Engineering, 1998, Garmisch-Partenkirchen,Germany. Book of Abstracts, 1998.
14. HAJEK, V. ; RUSNAK, K. ; VLCEK, J. ; MARTINU, L. ; HAWTHORNE, H. . Tribological study of CNx films prepared by reactive dc magnetron sputtering. In: 11th International Conference on Wear of Materials, 1997, San Diego, USA. Abstracts, 1997.
15. HAJEK, V. ; RATS, D. ; MARTINU, L. ; HAWTHORNE, H. ; BORGES, C. F. M. ; MOISAN, M. . Tribological behavior of diamond films deposited in surface-wave-sustained discharge. In: 11th International Conference on Wear of Materials, 1997, San Diego, USA. Abstracts, 1997.
16. RATS, D. ; HAJEK, V. ; MARTINU, L. . Microscratch analyses and mechanical properties of plasma-deposited silicon-based coatings on polymer substrates. In: International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF-97), 1997, San Diego, USA. Book of Abstracts, 1997.
17. HAJEK, V. ; RUSNAK, K. ; VLCEK, J. ; MARTINU, L. ; GUJRATHI, S. C. . Influence of rf substrate bisas voltage on the properties of CNx films prepared by dc magnetron sputtering. In: 18th Symposium on Plasma Physics and Technology, 1997, Prague, Republica Tcheca. Programme & Abstracts, 1997. p. 68.
18. VLCEK, J. ; RUSNAK, K. ; HAJEK, V. . Characterization of CNx film deposition using optical emission spectroscopy. In: 18th Symposium on Plasma Physics and Technology, 1997, Prague, Republica Tcheca. Programme & Abstracts, 1997. p. 17.
19. HAJEK, V. ; RUSNAK, K. ; VLCEK, J. ; MARTINU, L. ; GUJRATHI, S. C. . Influence of rf substrate bias on the properties of CNx films prepared by reactive magnetron sputtering. In: 43rd National Symposium of American Vacuum Society, 1996, Philadelphia, USA. Abstracts, 1996. p. 177.
Página gerada pelo Sistema Currículo Lattes em 11/02/2012 às 13:21:54