Segundo Nilo Mestanza Muñoz

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  • Última atualização do currículo em 08/08/2018


Graduação em Física, Mestrado em Física pela Universidade Estadual de Campinas (1996), Doutorado em Física pela Universidade Estadual de Campinas (2001) e Pós-doutorado Micro/Nanotecnologia Centro de Componentes Semicondutores CCS-Unicamp. Atualmente professor-pesquisador Associado I na Universidade Federal do ABC, professor colaborador na Universidade Estadual de Campinas (Unicamp) e diretor na UFABC do laboratório de Dispositivos, Instrumentação e Nano-Materiais (DINAMA) . Tenho experiência na área de microeletrônica, com ênfase em materiais semicondutores, dielétricos e propriedades dielétricas, atuando nos seguintes temas: Plasma ECR (electron cyclotron resonance); Sensores de imagem de pixels ativos (APS) projeto/simulação, fabricação, e caracterização; Filmes finos e ultra-finos. Microlasers de cavidades não convencionais, memórias não voláteis de porta flutuante discreta. Experiência no desenvolvimento de novas tecnologias de preparação de nanomateriais, utilizando três técnicas diferentes: implantação iônica, crescimento epitaxial (LPCVD) e coloides. A ideia é dar-lhe aplicação de nossos conhecimentos de síntese das nanoestruturas e nanosistemas híbridos, no processo de fabricação de micro/nano dispositivos fotônicos, eletrônicos e biomedicina (marcadores, carregadores de fármacos, ressonadores plasmônicos ?nanoshells? e ressonadores magnéticos). Na área de instrumentação, projeto e faço montagem de impressoras 3-D, com aplicações na impressão de dispositivos (utilizando tinta condutiva com nanopartículas plasmônicas) e próteses (biomedicina). (Texto informado pelo autor)


Identificação


Nome
Segundo Nilo Mestanza Muñoz
Nome em citações bibliográficas
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.;S.N.M. Mestanza;Mestanza S.N.M.;MESTANZA, S.N.M.;MESTANZA, SEGUNDO NILO M.;MUNOZ, S.N.M.;MESTANZA, S. N. M.;MESTANZA, SEGUNDO NILO

Endereço


Endereço Profissional
Universidade Federal do ABC, Centro de Engenharia, Modelagem e Ciências Sociais Aplicadas.
Avenida dos Estados
Santa Teresinha
09210580 - Santo André, SP - Brasil
Telefone: (11) 49968279
URL da Homepage: http://www.ufabc.edu.br


Formação acadêmica/titulação


1996 - 2001
Doutorado em Física.
Universidade Estadual de Campinas, UNICAMP, Brasil.
Título: Desenvolvimento laseres semicondutores de cavidades ressonantes não convencionais obtidas por plasma seco, Ano de obtenção: 2001.
Orientador: Newton Cesario Frateschi.
Palavras-chave: optoeletronica; semicondutores; Microlasers.
Grande área: Ciências Exatas e da Terra
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada / Especialidade: Prop. Óticas e Espectrosc. da Mat. Condens; Outras Inter. da Mat. com Rad. e Part..
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada.
Setores de atividade: Desenvolvimento de Novos Materiais.
1994 - 1996
Mestrado em Fisica.
Universidade Estadual de Campinas, UNICAMP, Brasil.
Título: Influência da ventilação na distribuição espacial do Rn-222 e seus produtos de decaimento em ambientes de convívio humano,Ano de Obtenção: 1996.
Orientador: Julio Cesar Hadler.
Palavras-chave: Contaminação radiológica; Radônio-222; técnica de dosimetria.
Grande área: Ciências Exatas e da Terra
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física das Partículas Elementares e Campos.
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física.
Setores de atividade: Cuidado À Saúde das Populações Humanas.
1988 - 1991
Graduação em Fisica.
Universidad Nacional de Ingenieria Facultad de Ciencias, UNI, Peru.
Título: Desenvolvimento experimental e teórico da dosimetria de nêutrons, utilizando a técnica de traços nucleares.
Orientador: Dr. Agustin Zuñiga.


Pós-doutorado


2002 - 2005
Pós-Doutorado.
Universidade Estadual de Campinas, UNICAMP, Brasil.
Bolsista do(a): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo, FAPESP, Brasil.
Grande área: Ciências Exatas e da Terra
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Engenharia / Especialidade: Microeletrônica.
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Engenharia / Especialidade: Sensores de Imagem.


Atuação Profissional



Universidade Estadual de Campinas, UNICAMP, Brasil.
Vínculo institucional

2008 - Atual
Vínculo: Professor participante, Enquadramento Funcional: Pesquisador colaborador, Carga horária: 8

Vínculo institucional

2004 - Atual
Vínculo: Professor Participante, Enquadramento Funcional: Pesquisador colaborador, Carga horária: 10
Outras informações
Sou Co-orientador de um aluno de doutorado na FEEC e pesquisador colaborador no CCS/Unicamp, na área de Micro/ Nanotecnologia.

Atividades

08/2003 - Atual
Pesquisa e desenvolvimento .

08/2000 - 07/2001
Ensino, Fisica, Nível: Graduação

Disciplinas ministradas
Laboratório de Física 2
Laboratório de Física 1

Universidade Federal do ABC, UFABC, Brasil.
Vínculo institucional

2008 - Atual
Vínculo: , Enquadramento Funcional: Professor Adjunto, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.

Atividades

05/2012 - Atual
Pesquisa e desenvolvimento , Centro de Engenharia, Modelagem e Ciências Sociais Aplicadas, .

Linhas de pesquisa
Prototipagem rápida
01/2009 - Atual
Pesquisa e desenvolvimento , Centro de Engenharia, Modelagem e Ciências Sociais Aplicadas, .

Linhas de pesquisa
Nanomateriais e Dispositivos


Linhas de pesquisa


1.
Fotônica de silício

Objetivo: Tenho experiência em fabricar, caracterizar e desenvolver dispositivos fotônicos e eletrônicos, a partir de nanopartículas obtidas por: implantação, LPCVD, deposição de filmes porosos por e-beam+ annealing e por coloides. Tal vez uma das aplicações interessantes das nanopartículas fabricadas pelo grupo, é a microfabricação de dispositivos fotônicos, a partir de microcavidades não convencionais contendo nanoestruturas (ns) semicondutoras (Si ou Ge), no intuito de fabricar minifontes de luz. O excelente acoplamento dos níveis de energia das ns de Si com o Er+ em matrizes de SiO2, permite desenvolver cavidades fotônicas com emissão de luz no comprimento de onda de 1,55 um, estratégico para os sistemas de comunicações ópticas. Para isto conto com minha experiência e conhecimentos adquiridos até hoje nas sínteses de nanoestruturas, sensores APS-CMOS (pós-doutorado) e micro-laseres semicondutores de poços quânticos de InGaAs/GaAs, utilizando micro-cavidades não convencionais obtidas por plasma, realizadas no meu doutorado..
Grande área: Ciências Exatas e da Terra
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada / Especialidade: Prop. Óticas e Espectrosc. da Mat. Condens; Outras Inter. da Mat. com Rad. e Part..
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada.
Setores de atividade: Pesquisa e Desenvolvimento.
Palavras-chave: microeletrônica; Microlasers; Nanoestruturas; optoeletronica; Plasma; semicondutores.
2.
Sensores CMOS

Objetivo: Conto com a experiência de ter participado no desenvolvido sensores de imagens APS (Active Pixel Sensor) com um processo CMOS 2, processo de 54 etapas de fabricação, desenvolvido integralmente nos laboratórios do Centro de Componentes Semicondutores (CCS-Unicamp). Esta experiência me permite abordar novos desafios como: sensores coloridos (utilizando diversas junções por implantação); sensores NIV; desenvolvimento de novas arquiteturas de pixels, exemplo utilizar como elemento sensor um Metal-Semicondutor-Metal, que responde muito mais rápido que o convencional fotodetector tipo diodo (trabalho em andamento), etc. Na área de sensores, no momento se encontram alguns projetos em andamento: Desenvolvimento de uma arquitetura de pixels tipo fotodiodo que trabalhe com dois únicos transistores, um a menos que os pixels convencionais; Tenho boa experiência teórica-experimental em camadas antireflexivas de SiO2, Si3N4 e SiOxNy, para aperfeiçoar a eficiência quântica de sensores; desenvolvimento de novos tipos de materiais para contatos ôhmicos (Silicetos) e pesquisa de materiais resistentes à radiação ionizante em aplicações espaciais como o oxinitretos de silício (SiOxNy)..
Grande área: Engenharias
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física.
Grande Área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Circuitos Elétricos, Magnéticos e Eletrônicos / Especialidade: Circuitos Eletrônicos.
Setores de atividade: Pesquisa e Desenvolvimento.
Palavras-chave: SENSORES; CMOS; Processo; APS; Antireflective coating; Silicon.
3.
Dispositivos memória utilizando nanoestruturas semicondutoras

Objetivo: Nanoestruturas semicondutoras tem atraído um grande interesse na fabricação de memórias não voláteis, com grandes vantagens em relação às convencionais como: Operam em baixos voltagens; rapidez na programação/apagado; aumento no tempo de retenção de carga; agem como sítios discretos de armazenamento; redução das perdas de carga por defeitos no oxido de tunelamento e alta integração com os sistemas CMOS. No grupo que eu sou o responsável, DINAMA, tenho desenvolvido a metodologia de projetar, fabricação e caracterização memorias não voláteis de gate flutuante discreto (dopado com nanoestruturas de Ge). Tenho experiência na fabricação e caracterização de capacitores MOS de gate flutuante discreto (nanogate formado por nanopartículas de Ge), agora estamos partindo para transistores MOSFET de gate flutuante discreto. Utilizando um reator LPCVD temos conseguido encontrar parâmetros ideias para conseguir nanopartículas de Ge com densidades acima de 1012 cm-2, com boa distribuição espacial e altas densidades, um bom controle no tamanho das nanoparticulas, com reduzida distribuição em tamanhos. Temos desenvolvido uma técnica de analise das propriedades de memórias dos nossos capacitores através do parâmetro: ?janela de memória? (memory window) obtida da largura das curvas de histereses C-V. Das curvas I-V determinamos os regimes de funcionamento de tensão e corrente dos nossos capacitores bem como o mecanismo de programação que os caracteriza, que no nosso caso foi o tunelamento Fowler-Nordheim. Tenho experiência com modelagem sobre transporte de portadores em meios isolantes (tunelamento de portadores sobre barreiras), a fim de estabelecer a influencia que a presença de NPs-Ge no óxido de porta..
Grande área: Ciências Exatas e da Terra
Grande Área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica.
Grande Área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Materiais Elétricos.
Setores de atividade: Pesquisa e Desenvolvimento.
Palavras-chave: Capacitores MOS; Nanoestruturas; Tunelamento; Transporte; Memórias.
4.
Sínteses de nanoressonadores com aplicações na medicina (Nanoshells e partículas magnéticas)

Objetivo: A experiência na sínteses e caracterização de nanopartículas por técnicas sofisticada, onde requerem ambientes especiais, motivarem-me implementar na UFABC, ainda sem estas condições, desenvolver uma técnica de obter sínteses de nanopartículas por coloides. Ate o momento temos experiência em sintetizar nanopartículas de (SiO2; SiO2 dopada com Er; Au; Ag; Fe3O4; SiO2 oca; SiO2 com shell de Au e Ag; Fe3O4 com shell de SiO2). Após de avaliar as propriedades ópticas, elétricas, morfológicas e estruturais destas nanopartículas, estamos partindo para o desenvolvimento de dispositivos com aplicações biomédicas. Já temos conseguido resultados preliminares de nanoressonadores fotônicos (núcleos de SiO2 com cascas de ouro), para aprisionar fótons e ser utilizado estes sistemas para matar células cancerígenas usando a técnica de ablação laser. Paralela à pesquisa das nanoshells, desenvolvemos outro tipo de ressonador para matar células cancerígenas a sínteses de nanopartículas magnéticas (Fe3O4). Nos encontramos num estagio avançado, e temos blindado os núcleos de Fe3O4 com SiO2 no intuito de minimizar as aglomerações das nanopartículas, para não perder seus monodomínios paramagnéticos, assim como minimizar sua oxidação. No momento estamos já começando a dar aplicação de matar células cancerígenas cultivadas in-vitro usando a técnica de hipertermia magnética, desenvolvida integralmente em nosso grupo de pesquisa. Este projeto esta sendo desenvolvido em parceria com o Dr. Prof. Tiago Rodriguez (CCNH/UFABC)..
Grande área: Ciências Exatas e da Terra
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física Medica.
Setores de atividade: Pesquisa e Desenvolvimento.
Palavras-chave: Plasmônica; nanoressonadores; Nanoshells; Nanoestruturas; Colóides.
5.
Sínteses e caracterização de nanoestruturas de silício e germânio

Objetivo: Domínio da técnica de preparação e caracterização das ns semicondutoras. Com isso, pretendemos aperfeiçoar o processo de obtenção das ns, no intuito de ter um alto controle nos tamanhos, distribuição espacial, minimizar defeitos e por conseguinte obter excelente performance no funcionamento dos dispositivos..
Grande área: Ciências Exatas e da Terra
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada.
Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada / Especialidade: Prop. Óticas e Espectrosc. da Mat. Condens; Outras Inter. da Mat. com Rad. e Part..
Setores de atividade: Pesquisa e Desenvolvimento.
Palavras-chave: Nanoestruturas; implantação ionica; LPCVD; e-beam; Fotoluminescência; Espectroscopía Raman.
6.
Nanomateriais e Dispositivos

Objetivo: Como nosso grupo tem uma excelente parceria com os grupos de pesquisa em dispositivos, Centro de componentes Semicondutores (CCS) e Laboratório de Pesquisa em Dispositivos (LPD), ambos da Universidade Estadual de Campinas (Unicamp), a partir do estudo e caracterização das propriedades dos nanomateriais, partir para a fabricação de dispositivos fotônicos e eletrônicos..
Grande área: Engenharias
Setores de atividade: Pesquisa e desenvolvimento científico.
Palavras-chave: Impressoras-3D.
7.
Prototipagem rápida

Objetivo: Nosso grupo DINAMA integrado por alunos e pesquisadores da Universidade Federal do ABC vem desenvolvendo a tecnologia de montar e inovar sistemas de prototipagem rápida (Impressoras-3D). Estamos concluindo a terceira versão das impressoras-3D. O grupo também tem aperfeiçoado o processo de manufatura camada por camada, de forma aditiva, capaz de construir peças de alta complexidade diretamente de modelos CAD. Nosso primeiro protótipo fabricado foi uma prótese de mão, em parceria com a Dra. Profa. Maria Elizette Kunkel (Unifesp). Esse foi o primeiro impulso para o desenvolvimento integral de um braço biônico com peças já imprimidas em nossa impressora-3D. Neste momento o movimento do braço esta sendo abordado por três frentes. A partir de programas feitos na linguaje C++; Sensores flex/Sensores de força tentando dar um movimento mais realista que o convencional que é robotizado, este projeto esta sendo desenvolvido em parceria com o Dr. Prof. Magno E. M. Meza (CECS/UFABC); Finalmente o projeto mais ambicioso é de movimentar o braço biônico por impulsos elétricos do cérebro, utilizando um capacete EEG que estamos comprando em parceria com o Dr. Prof. Mario A. Gazziro (CECS/UFABC). No momento todo este projeto esta sendo desenvolvido e custeado integralmente por nosso grupo DINAMA. Coma amplia experiência de Nanociência e Nanotecnologia, eu juntamente com meus alunos do grupo DINAMA, temos desenvolvido nanopartículas plasmônicas, e começado a imprimir circuitos em impressoras-2D, nosso passo mais ambicioso será a de imprimir circuitos elétricos com fontes de alimentação usando nanopartículas, e todo este processo ser realizado integralmente na impressora-3D. No momento me encontro elaborando a patente deste trabalho..
Grande área: Engenharias
Grande Área: Engenharias / Área: Engenharia Biomédica / Subárea: Engenharia Médica / Especialidade: Biomateriais e Materiais Biocompatíveis.
Grande Área: Engenharias / Área: Engenharia Biomédica / Subárea: Engenharia Médica / Especialidade: Tecnologia de Próteses.
Setores de atividade: Pesquisa e desenvolvimento científico.


Projetos de pesquisa


2008 - Atual
Síntese nanoressonadores plasmonicos obtidas por Colóides
Descrição: Neste projeto de pesquisa propomos o desenvolvimento de uma nova tecnologia para preparar nanoestruturas (ns): Metálicas (sílica revestida com ouro), nanoshells, e oxido de ferro, no intuito de dar aplicação à medicina. Este projeto está dividido em duas etapas: A primeira etapa consistirá no processo de preparação das ns, utilizando a técnica de colóides. Após sua fabricação, Serão feito caracterizações ópticas, morfológicas e estruturais. A segunda etapa de nosso trabalho consistirá em dar uma aplicação de nossa pesquisa, para isso contamos com o apoio de uma boa interação do pessoal da Biologia da Unicamp, USP e UFABC em experiências em in vitro e in vivo..
Situação: Em andamento; Natureza: Pesquisa.
Alunos envolvidos: Graduação: (3) .
Integrantes: Segundo Nilo Mestanza Muñoz - Coordenador / Gustavo Martini Dalpian - Integrante / Anderson Orzari Ribeiro - Integrante.
2007 - Atual
Síntese e caracterização de nanoestruturas de Ge por e-beam
Descrição: A experiência nestes anos na síntese de nanoestruturas, nos fez procurar técnicas alternativas às desenvolvidas, tentando minimizar os danos (térmicos e implantação) na matriz que contem as ns. No momento me encontro desenvolvendo com êxito a técnica de deposição de filmes porosos monoatômicos por e-beam, que depois de um tratamento térmico eles precipitam e formam ns. Após de cada rodada de fabricação, diversas técnicas de caracterização são feitas: fotoluminescência, espectroscopia Raman, transformada de Fourier no Infravermelho, microscopia de força atômica e difração de raios X..
Situação: Em andamento; Natureza: Pesquisa.
2004 - Atual
Síntese e caracterização de nanocristais de Ge, crescidas por LPCVD
Descrição: Neste projeto de pesquisa desenvolvemos a síntese e caracterização de nanoestruturas (ns) de Ge, crescida sobre núcleos de Si. Estas ns se encontram contidas dentro de uma matriz de SiO2. Atualmente estamos na fase de aperfeiçoar a técnica, no intuito de estudar a influência dos parâmetros de processo na distribuição espacial e de tamanhos das ns, tais como: pressão, temperatura, tempo de deposição; fluxos de gases. Após de cada rodada de fabricação, diversas técnicas de caracterização são feitas: fotoluminescência, espectroscopia Raman, transformada de Fourier no Infravermelho, microscopia de força atômica e difração de raios X. As nanoestruturas são obtidas pela técnica de deposição química em fase vapor trabalhando em baixas pressões (LPCVD).
Situação: Em andamento; Natureza: Pesquisa.
Alunos envolvidos: / Mestrado profissional: (1) / Doutorado: (1) .
Integrantes: Segundo Nilo Mestanza Muñoz - Coordenador / Emílio Sérgio Marins Vieira Pinto - Integrante / Ioshiaki Doi - Integrante / Ricardo Sis Moreira - Integrante.
Número de produções C, T & A: 10
2003 - Atual
Síntese e caracterização de nanocristais de Si ou Ge, utilizando implantação de íons
Descrição: Neste projeto de pesquisa desenvolvemos a síntese e caracterização de nanoestruturas (ns) de Si ou Ge obtidas pela técnica de implantação de íons seguida de um annealing em altas temperaturas. Estas ns se encontram contidas dentro de uma matriz de SiO2. Atualmente estamos na fase de aperfeiçoar a técnica, no intuito de otimizar parâmetros de processo como: o tipo de matriz que contem as ns, passivação de interfases, annealing, implantações múltiplas no intuito de procurar uma distribuição espacial uniforme, controle dos tamanhos e minimizar os efeitos dos danos produzidos pela implantação. Após de cada rodada de fabricação, diversas técnicas de caracterização são feitas: fotoluminescência, espectroscopia Raman, transformada de Fourier no Infravermelho, microscopia de força atômica e difração de raios X..
Situação: Em andamento; Natureza: Pesquisa.
Alunos envolvidos: Doutorado: (1) .
Integrantes: Segundo Nilo Mestanza Muñoz - Coordenador / Guilherme Osvaldo Dias - Integrante / Jacobus Willibrordus Swart - Integrante / Newton Cesário Frateschi - Integrante.Financiador(es): Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico - Auxílio financeiro.
Número de produções C, T & A: 10
2002 - Atual
Sensores CMOS
Descrição: Este projeto consiste no desenvolvimento de layout, fabricação e caracterização de sensores APS (Active Pixel Sensor) no processo CMOS 2 um. Os sensores são fabricados numa seqüência de 60 etapas de processo, sendo desenvolvido integralmente com tecnologia própria de nosso centro de pesquisa o CCS/UNICAMP. No intuito de diminuir o quociente sinal ruído, com este projeto apresentamos inovadores circuitos básicos como: novas arquiteturas de pixels, de variadas geometrias e tamanho de fotodetectores; Camadas antireflexivas, Multiplexadores; Conversor analógico digital tipo flash, Eliminadores de ruído FTP..
Situação: Em andamento; Natureza: Pesquisa.
1997 - Atual
Microcavidades fotônicas
Descrição: Este projeto consiste basicamente no desenvolvimento de uma tecnologia de fabricação e caracterização de microcavidades fotônicas caóticas (micro-lasers) contendo poços quânticos ou nanoestruturas semicondutoras. Resultados complementares de modelos do tempo de vida dos fótons na cavidade são comparados ao tempo de percurso, explicando o comportamento espectral em termos de batimentos entre órbitas scars. Estudos teóricos complementares da emissão óptica das micro-cavidades, tomando como base a equação de onda escalar de Helmholtz, servirão para estudar a influência da geometria da cavidade na direcionabilidade e supressão espectral..
Situação: Em andamento; Natureza: Pesquisa.


Revisor de periódico


2009 - Atual
Periódico: Journal of Physical Chemistry. A, Molecules, Spectroscopy, Kinetics, Enviro
2015 - Atual
Periódico: Optical Materials Express


Áreas de atuação


1.
Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Nanomateriais.
2.
Grande área: Outros / Área: Microeletrônica / Subárea: Micro/Nanotecnologia.
3.
Grande área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Materiais Elétricos/Especialidade: Materiais e Componentes Semicondutores.
4.
Grande área: Outros / Área: Robótica, Mecatrônica e Automação / Subárea: Prototipagem rápida.
5.
Grande área: Outros / Área: Robótica, Mecatrônica e Automação / Subárea: Física da Matéria Condensada.
6.
Grande área: Outros / Área: Robótica, Mecatrônica e Automação / Subárea: Física Medica.


Idiomas


Espanhol
Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.
Português
Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.
Inglês
Compreende Bem, Fala Razoavelmente, Lê Razoavelmente, Escreve Razoavelmente.


Prêmios e títulos


2005
Pós-Doutor, Unicamp.
2001
Doutor, Unicamp.
1996
Mestre, Unicamp.


Produções



Produção bibliográfica
Artigos completos publicados em periódicos

1.
MATEOS, D.2017MATEOS, D. ; DINIZ, J.A. ; NEDEV, N. ; MUNOZ, S.N.M. ; CURIEL, M. ; MEDEROS, M. ; VALDEZ, B. ; MONTERO, G. . Thin SiO 2 /a-Si:H/SiO 2 multilayer insulators obtained by electron cyclotron resonance chemical vapor deposition at room temperature for possible application in non-volatile memories. THIN SOLID FILMS, v. 628, p. 96-100, 2017.

2.
M. Mederos2016M. Mederos ; S.N.M. Mestanza ; LANG, R. ; I.Doi ; J. A. Diniz . Germanium nanoparticles grown at different deposition times for memory device applications. Thin Solid Films, v. 611, p. 39-45, 2016.

3.
MESTANZA, SEGUNDO NILO M.2016MESTANZA, SEGUNDO NILO M.; RIBEIRO, ANDERSON ORZARI ; RIBEIRO, CARINE SANTANA DE SOUZA ; GIUNTA, GIORGIO ; RIBERA, ANTONIO . Study of the influence of dynamics variables on the growth of silica nanoparticles. Inorganic and Nano-Metal Chemistry, v. 47, p. 824-829, 2016.

4.
MEDEROS, M.2015MEDEROS, M. ; MESTANZA, S.N.M. ; DOI, I. ; DINIZ, J.A. . Effects of temperature and deposition time on the structural and optical properties of Si1−xGex nanoparticles grown by low pressure chemical vapor deposition. Thin Solid Films, v. 579, p. 116-122, 2015.

5.
MEDEROS, M.2012MEDEROS, M. ; MESTANZA, S. N. M. ; DOI, I. ; DINIZ, J. A. . Influence of a Thickness and Percentage of Ge in Optical Properties of Thin Films of Si1-xGex Grown by LPCVD. ECS TRANSACTIONS (ONLINE), v. 49, p. 391-397, 2012.

6.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.2009 S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Enhanced side-mode suppression in chaotic stadium microcavity lasers. Journal of Applied Physics, v. 105, p. 063101-063103, 2009.

7.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.2007 S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Fabrication and characterization of Ge nanocrystalline growth by ion implantation in SiO2 matrix. Journal of Materials Science, v. 42, p. 7757-7761, 2007.

8.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.2007S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Effect of Nucleation Parameters of Ge Quantum Dots Grown over Silicon Oxide by LPCVD. JICS. Journal of Integrated Circuits and Systems, v. 2, p. 81-84, 2007.

9.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.2007S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Photoresponse Analysis of Sensors Fabricated with Standard 2.0 um CMOS Tehnology. Journal of the Electrochemical Society, v. 9, p. 553-560, 2007.

10.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.2007S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. The effect of Si-Substrate on the Optical Characterization of Ge Nanostructures obtained by LPCVD. Journal of the Electrochemical Society, v. 9, p. 143-149, 2007.

11.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.2006S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Characterization and Modeling of Antireflective Coatings of SiO2, Si3N4, and SiOxNy Deposited by ECR-CVD. J. Vac. Sci. Technol. B, v. 24, p. 823-827, 2006.

12.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.2006 S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Electron cyclotron plasma etching damage investigated by InGaAs/GaAs quantum well photoluminescence. J. Vac. Sci. Technol. B, v. 24, p. 2726-2730, 2006.

13.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.2006S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.; E. Rodriguez ; N. C. Frateschi . The effect of Ge implantation dose on the optical properties of Ge nanocrystals in SiO2. Nanotechnology (Bristol), v. 17, p. 4548-4553, 2006.

14.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.2006S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Influence of nucleation parameters in the spatial distribution of the Ge nanocrystals formed by LPCVD. Materials Science in Semiconductor Processing, v. 9, p. 828-831, 2006.

15.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.2002S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Effects of environmental conditions on the radon daughters spatial distribution. Radiation Measurements, v. 35, p. 213, 2002.

16.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.2002 S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. InGaAs/GaAs/InGaP quantum well microcavites with spatially controller carrier injection. Future Trends in Microelectronics The Nano Millennium, New Jersey-USA, p. 364-369, 2002.

17.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.2001S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Laser reflectometry ?in situ? monitoring Structural and growth effects on the ECR etching of In0.49Ga0.51P layers in Al-free laser structures. Journal Vaccum Science Technology B., v. 19, p. 192, 2001.

Trabalhos completos publicados em anais de congressos
1.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Phororesponse Analysis of Sensors Fabricated with Standard 2.0 um CMOS Technology. In: SBMicro 2007 22th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Rio de Janeiro, 2007, Rio de Janeiro. SBMicro 2007 22th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Rio de Janeiro, 2007.

2.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. The effect of Si-Substrate on the Optical Characterization of Ge Nanostructure Obtained by LPCVD. In: SBMicro 2007 22th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Rio de Janeiro, 2007, Rio de Janeiro. SBMicro 2007 22th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Rio de Janeiro, 2007.

3.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Synthesis Ge nanocrystals grown by ion implantation and subsequent annealing. In: ICCDCS 6th IEEE International Caribbean Conference on Devices, Circuits and Systems-2006, 2006, island of Cozumel, México. IEEE's Publications, 2006.

4.
E. S. Marins ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. ; R. C. Teixeira ; DOI, I. . INFLUENCE OF NUCLEATION PARAMETERS IN Ge NCs FORMATION BY LPCVD. In: SBMicro 2006 21th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, 2006, Ouro Preto - MG - Brazil. Proc. 2006 Electrochemical Society Workshop on Microelectronics and Devices.

5.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Synthesis Ge nanocrystals grown by ion implantation and subsequent annealing. In: ICCDCS 6th IEEE International Caribbean Conference on Devices, Circuits and Systems-2006, Playa del Carmen, 2006, Playa del Carmen / Mexico. ICCDCS 6th IEEE International Caribbean Conference on Devices, Circuits and Systems-2006, Playa del Carmen, 2006.

6.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Influence of Nucleation Parameters in the Ge NCs formation by LPCVD. In: SBMicro 2006 21th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Ouro Preto, 2006, Ouro Preto / MG. SBMicro 2006 21th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Ouro Preto, 2006.

7.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Characterization and Performance Evaluation of a APS Pixel in a Standard 2.0 um CMOS Technology. In: SBMicro 2005 20th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, 2005, Florianopolis. Proc. 2005 Electrochemical Society Workshop on Microelectronics and Devices. Pennington, New Jersey: Electrochemical Society, INC, 2005. v. 2005. p. 32-38.

8.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Growth and Characterization of Silicon Nanocrystals Obtained by Ion Implantation. In: SBMicro 2005 20th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, 2005, Florianopolis. Proc. 2005 Electrochemical Society Workshop on Microelectronics and Devices. Pennington, New Jersey: Electrochemical Society, 2005. v. 2005. p. 297-303.

9.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Characterization and performance evaluation of a APS pixel in a standard 2μm CMOS technology. In: SBMicro 2005 20th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Florianopolis, 2005, Florianopolis / RS. SBMicro 2005 20th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Florianopolis / SC, 2005.

10.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Growth, and characterization of silicon nanocrystals obtained by ion implantation. In: SBMicro 2005 20th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Florianopolis, 2005, Florianopolis / RS. SBMicro 2005 20th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Florianopolis, 2005.

11.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. High Performance Active Pixel Sensors Fabricated in a Standard 2.0 um CMOS Technology. In: IEEE Fifth International Caracas Conference on Devices, Circuits and Systems-2004, Punta Cana, 2004, Punta cana. ICCDCS 2004 Proceedings. Punta Cana: IEEE, 2004. v. 2004. p. 276-280.

12.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Active Pixel Sensors Fabricated in a Standard 2.0 um CMOS Technology. In: IV Congreso Iberoamericano de Sensores, 2004, puebla. IV Congreso Iberoamericano de Sensores. PUEBLA, 2004.

13.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. High Sensitivity Obtained by Three-Color Detector APS-CMOS Using Antireflective Coating. In: SBMicro 2004 19th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, 2004, Porto de Galinhas / Pernanbuco. Proc. 2004 Electrochemical Society Workshop on Microelectronics and Devices. Pennington, New Jersey: Electrochemical Society, 2004. v. 2004. p. 201-206.

14.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Preparation and Characterization of Silicon Nanocrystals Obtained by Ion Implantation. In: SBMicro 2004 19th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, 2004, Porto de Galinhas / Pernanbuco. SBMicro 2004 19th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS. Pennington, New Jersey: SBMicro 2004 19th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, 2004. v. 200403. p. 169-174.

15.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. High Sensitivity Obtained by Three-Color Detector APS-CMOS Using Antireflective Coating. In: SBMicro 2004 19th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, 2004, Porto de Galinhas. SBMicro 2004 19th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, 2004.

16.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Preparation and Characterization of Silicon Nanocrystals Obtained by Ion Implantation. In: SBMicro SBMicro 19th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, 2004, Pernanbuco. SBMicro 2004 19th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, 2004.

17.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. High Performance Active Pixel Sensors Fabricated in a Standard 2.0 μm CMOS Technology. In: IEEE Fifth International Caracas Conference on Devices, Circuits and Systems-2004, Punta Cana, 2004, Punta de Cana / Republica domi. IEEE Fifth International Caracas Conference on Devices, Circuits and Systems-2004, Punta Cana, 2004.

18.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Three-Color Detectors for APS-CMOS Image Sensors Employing a Triple Junction. In: SBMicro-2003 18th Symposium on Microelectronics Technology and Devices, 2003, São Paolo - Brasil. Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington, NJ-USA: The Electrochemical Society, Inc., 2003. v. 2003-0. p. 428-436.

19.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Structural and Optical Characterization of Silicon Nanocrystals Obtained by Ion Implantation. In: SBPMat 2003 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems II, 2nd Brazilian MRS Meeting, 2003, Rio de Janeiro, Brasil. SBPMat 2003 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems II, 2nd Brazilian MRS Meeting, 2003.

20.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Photodiode - type Pixels for APS-CMOS 2um Image Sensors. In: IX-IBERCHIP Workshop IWS-2003, 2003, HABANA. IX-IBERCHIP Workshop IWS-2003. HABANA: IX-IBERCHIP Workshop IWS-2003, 2003.

21.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Sensor de pixel ativo no processo CMOS 0,35um. In: IX-IBERCHIP Workshop IWS-2003, 2003, HABANA. IX-IBERCHIP Workshop IWS-2003. HABANA: IX-IBERCHIP Workshop IWS-2003, 2003.

22.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Sensor de pixel ativo no processo CMOS 0,35um. In: IX-IBERCHIP Workshop IWS-2003, Havana, 2003, Habana. : IX-IBERCHIP Workshop IWS-2003, Havana / Cuba, 2003.

23.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Photodiode - type Pixels for APS-CMOS 2 m Image Sensors. In: IX-IBERCHIP Workshop IWS-2003, Havana, 2003, Habana. IX-IBERCHIP Workshop IWS-2003, Havana / Cuba, 2003.

24.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Three-Color Detectors for APS-CMOS Image Sensors Employing a Triple Junction. In: ?: SBMicro 2003 18th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip in Sampa, 2003, São Paulo. SBMicro 2003 18th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip in Sampa, 2003.

25.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Development of CMOS-APS Technology. In: SBMicro-2002 17th Symposium on Microelectronics Technology and Devices, 2002, Porto Alegre, RS, Brasil. Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2002. Pennington, NJ, USA: The Electrochemical Society, Inc., 2002. v. 2002-8. p. 223-229.

26.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Development of CMOS-APS Technology. In: SBMicro - 17th symposium on microelectronic technology and devices, 2002, Porto Alegre. SBMicro 17th symposium on microelectronic technology and devices, 2002.

27.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. InGaAs/GaAs/InGaP Quantum Well Microcavites with Spatially Controller Carrier Injection. In: Third meeting in the Future trends in microelectronics (FTM) workshop sereis,, 2001, Ile de Bendor / France. Future Trends in Microelectronics The Nano Millennium. New Jersey, USA: John Wiley & Sons, Inc., 2001. p. 364-371.

28.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. InGaAs/GaAs/InGaP quantum well microcavites with spatially controller carrier injection. In: Future trends in microelectronics: The nano Millennium, 2001, Ile de Bendor. Future trends in microelectronics: The nano Millennium. New York: IEEE Jhon Wiley & Inc. Publication, 2001. p. 364-371.

29.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Laser reflectometry applied to the in-situ etching control in an electron cyclotron resonance plasma system. In: Internacional Microwave and Optoeletronics Conference Imoc?99, 1999, Rio Janeiro. Internacional Microwave and Optoeletronics Conference Imoc?99.

30.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. InGaAs/GaAs/InGaP quantum well laser with etched mirror obtained by electron cycloton resonance plasma. In: Internacional Microwaves and optoelectronics Conference IMOC?99, 1999, Rio de Janeiro. Internacional Microwaves and optoelectronics Conference IMOC?99, 1999.

Resumos expandidos publicados em anais de congressos
1.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Synthesis and characterization of Gemanium nanocrystallites grown on silicon nuclei grown on ultra-thin oxides by LPCVD. In: 6th Brazilian MRS Meeting, Natal, 2007, Natal. SBPMat 2007 - Current Trends in Nanostructured Materials, 2007.

2.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Influence of post-annealing time in gas passivation on the photoluminescence spectral emission of silicon nanostructure embedded in SiO2. In: 12th Brasilian Workshop on Semiconductor Physics, 2005, São Jose dos Campos, SP. Program and Abstracts. SP, 2005. p. Th040-Th040.

3.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Formation of nanometer silicon dots with germanium core by low-pressure chemical vapor deposition. In: 12th Brasilian Workshop on Semiconductor Physics, 2005, São José dos Campos. Program and Abstracts. SP, 2005. p. Th046-Th046.

4.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Fabrication and characterization of Ge nanocrystalline grown by ion implantation in SiO2 matrix. In: SBPMat 2005, 2005, Recife / Brazil. SBPMat 2005. Recife-PE: Editora Universitaria UFPE, 2005. p. 20-20.

5.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Fabrication and Characterization of Si Nanocrystals Grown by ion Implantation in SiO2 and SiOxNy. In: 16th Internacional Vacuum Congress, 2004, Veneza. 16th Internacional Vacuum Congress, 2004.

6.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Optical and Eletrical Losses in Dry Etched Micro-Fabry Perot Resonators. In: Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP10), 2001, Guaruja (SP). Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP10), 2001.

Resumos publicados em anais de congressos
1.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Influence of Nucleation Parameters in the Spatial Distribution of the Ge Nanocrystals formed by LPCVD. In: European Materials Research Society (E-MRS), Nanomaterials & Nanoelectronics, Nice, 2006. European Materials Research Society (E-MRS), Nanomaterials & Nanoelectronics, Nice, 2006.

2.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Photoluminescence behavior of silicon nanocrystals as seem from Ostwald ripening and quantum confinement model. In: XXIX Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada, São Lourenço/MG, 2006, São Lourenço / MG. XXIX Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada, São Lourenço, 2006.

3.
A. M. Nunes ; MOSHKALYOV, S. A. ; TATSCH, P. J. ; DALTRINI, A. M. ; M. Machida ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. . Controlled Lateral Etching for Applications Using Reactive Ion Etching in Fluorine Plasmas. In: II Seminatec - Workshop on Semiconductors and Micro & Nano-Technology, 2006, Campinas. II Seminatec, 2006, Campinas. II Seminatec - Workshop on Semiconductors and Micro & Nano-Technology, 2006. p. 21-22.

4.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Influence of post-annealing time in gas passivation on the photoluminescence spectral emission of silicon nanostructure embedded in SiO2. In: Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP12), to be held in São Jose dos Campos, 2005, São Jose dos Campos / SP. Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP12), to be held in São Jose dos Campos, 2005.

5.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Formation of Nanometer Silicon Dots with Germanium Core by Low-pressure Chemical Vapor Deposition. In: Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP12), to be held in São Jose dos Campos, 2005, São Jose dos Campos. Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP12), to be held in São Jose dos Campos, 2005.

6.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Fabrication and characterization of Ge nanocrystalline grown by ion implantation in SiO2 matrix. In: SBPMat 2005 - Syntesis and characterization of nanoparticles and nanocomposites, 4nd Brazilian MRS Meeting, Recife, 2005, Recife. SBPMat 2005 - Syntesis and characterization of nanoparticles and nanocomposites, 4nd Brazilian MRS Meeting, Recife, 2005.

7.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Structural and Optical Characterization of Silicon nanocrystals in SiO2, SiOx and SiOxNy Matrices. In: XXVII Encontro Nacional De Física Da Matéria Condensada, 2004, Poços de Caldas. XXVII Encontro Nacional De Física Da Matéria Condensada, 2004. p. 303-304.

8.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Fabrication and Characterization of Si Nanocrystals with a Core Germany by Low-Pressure Chemical Vapour Deposition (LPCVD). In: SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, 2004, Foz do Iguazu. SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting. Foz do Iguazu: SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, 2004.

9.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Influence of N2, H2 and Forming Gas on Spectroscopic Properties of Silicon Nanostructure. In: SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, 2004, Foz do Iguazu. SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting. Foz do Iguazu: SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, 2004.

10.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. The Influence of the Phosphorus-doped in Silicon Nanostructure Fabricated by Ion Implantation. In: SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, 2004, Foz do Iguazu. SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting. Foz do Iguazu: SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, 2004.

11.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Capacitance-Voltage Characteristics in Metal Oxide Semiconductor Structure Containing Nanostructure of Silicon. In: SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, 2004, Foz do Iguazu. SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting. Foz do Iguazu: SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, 2004.

12.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Fabrication and Characterization of Si Nanocrystals grown by Ion Implantation in SiO2 and SiOxNy. In: 16th International Vacuum Congress, Venice / Italy, 2004, Venice. 16th International Vacuum Congress, Venice / Italy, 2004.

13.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Active Pixel Sensors Fabricated in a Standard 2.0 μm CMOS Technology. In: IV Congreso Iberoamericano de Sensores, Puebla / Mexico, 2004. IV Congreso Iberoamericano de Sensores, Puebla, 2004.

14.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Structural and Optical Characterization of Silicon Nanocrystals in SiO2, SiOx and SiOxNy Matrices. In: XXVII Encontro Nacional de Física da Materia Condensada, Poços de Caldas /MG, 2004, Poços de Caldas. XXVII Encontro Nacional de Física da Materia Condensada, Poços de Caldas /MG, 2004.

15.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Capacitance-Voltage Characteristics in Metal Oxide Semiconductor Structure Containing Nanostructure of Silicon. In: SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, Foz do Iguazu, 2004, Foz do Iguazu. SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, Foz do Iguazu, 2004.

16.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. The Influence of the Phosphorus-doped in Silicon Nanostructure Fabricated by Ion Implantation. In: SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, Foz do Iguazu, 2004, Foz do Iguazu. SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, Foz do Iguazu, 2004.

17.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Influence of N2, H2 and Forming Gas on Spectroscopic Properties of Silicon Nanostructure. In: SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, Foz do Iguazu, 2004, Foz do Iguazu. Influence of N2, H2 and Forming Gas on Spectroscopic Properties of Silicon Nanostructure, 2004.

18.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Fabrication and Characterization of Si Nanocrystals with a Core Germany by Low-Pressure Chemical Vapour Deposition. In: SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, Foz do Iguazu, 2004, Foz do Iguazu. SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, Foz do Iguazu, 2004.

19.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Structural and Optical Characterization of Silicon Nanocrystals Obtained by Ion Implantation. In: SBPMat 2003 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems II, 2nd Brazilian MRS Meeting, Rio de Janeiro, 2003, Rio de Janeiro. SBPMat 2003 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems II, 2nd Brazilian MRS Meeting, Rio de Janeiro, 2003.

20.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Optical and Eletrical Losses in Dry Etched Micro-Fabry Perot Resonators. In: Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP10), to be held in Guaruja, 2001, Guarujá. Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP10), to be held in Guaruja, 2001.

21.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Contaminação ambiental por Rn-222 no meio ambiente. In: Encontro Brasileiro de Proteção Radiológica, 1996, Campos de Jordan / SP. Fórum Nacional de Ciência e Tecnologia em Saúde, 1996.

Apresentações de Trabalho
1.
M. Mederos ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. ; DOI, I. ; J. A. Diniz . Influence of the percentage of Ge in the optical properties of nanostructures of Si1-xGex grown by LPCVD. 2012. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

2.
C. S. S. Ribeiro ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. ; Ribeiro, A. O. . A new method for fabrication of hollow silica. 2012. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

3.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.; C. S. S. Ribeiro ; Ribeiro, A. O. ; A. Quinaia ; A. F. Garcia-Flores. . Raman spectroscopy of iron oxide nanoparticles. 2012. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

4.
C. S. S. Ribeiro ; Ribeiro, A. O. ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. . Effect of the cationic polystyrene in hollow silica particles fabrication. 2012. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

5.
G. G. Boffo ; Ribeiro, A. O. ; R. A. Ribeiro. ; C. S. S. Ribeiro ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. . The influence of process parameters in the synthesis of Fe3O4 nanoparticles. 2012. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

6.
M. Mederos ; DOI, I. ; J. A. Diniz ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. . Optical properties of SiGe nanoparticles grown by LPCVD. 2012. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

7.
V. C. Pereira ; C. S. S. Ribeiro ; Ribeiro, A. O. ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. . Synthesis, characterization and modeling of plasmonic silver nanoparticles. 2012. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

8.
M. Mederos ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. ; I.Doi ; J. A. Diniz . Influence of the time of exposure of the Germanic in the growth of Ge nanocrystals on Si nuclei using the technique of LPCVD. 2012. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

9.
M. Mederos ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. ; I.Doi ; J. A. Diniz . Study of structural and optical properties of germanium nanoparticles embedded in SiO2 matrix. 2012. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

10.
M. P. Garcia ; Ribeiro, A. O. ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. . Fabrication, characterization, properties and applications of protective coatings and modified surfaces. 2011. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

11.
M. B. L. Holanda ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. ; Ribeiro, A. O. ; M. P. F. Graça . Influence of functionalization in synthesis of magnetic nanoparticles. 2011. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

12.
M. Mederos ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. ; I.Doi ; J. A. Diniz . Influence of deposition rate on the optical properties of Si1-xGex thin films obtained by LPCVD. 2011. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

13.
E. F. Silva ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. ; T. H. D. Santos ; Ribeiro, A. O. . Influence of Functionalization in the Synthesis of Silver Nanoparticles. 2011. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

14.
C. S. S. Ribeiro ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. ; Ribeiro, A. O. . Influence of functionalization in the size, morphology and geometric distribution of the hollow silica nanoparticles. 2011. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

15.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.; Ribeiro, A. O. ; A. Ribera ; G. Giunta . Growth Dynamic Study on Particles Silica Sol-Gel. 2011. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

16.
I. S. Polido ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. ; Ribeiro, A. O. . Synthesis and characterization of erbium doped silica nanoparticles by sol-gel. 2011. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

17.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.; Ribeiro, A. O. ; M. T. B. Milesi ; F. Duft ; A. C. G. Rocha ; A. Ribera ; G. Giunta . Preparation and characterization of silica nanoparticles via the sol-gel method. 2010. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

18.
M. T. B. Milesi ; F. Duft ; A. C. G. Rocha ; E. F. Chillcce ; Ribeiro, A. O. ; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M. . 11 th International Conference on Advanced Materials (ICAM). 2009. (Apresentação de Trabalho/Congresso).


Demais tipos de produção técnica
1.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.; SWART, J. W. . Fabricação, Modelamento e Caracterização de sensores de Imagens do tipo APS. 2005. (Relatório de pesquisa).



Bancas



Participação em bancas de trabalhos de conclusão
Mestrado
1.
E. C. Venancio; I.Doi; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Participação em banca de Carine Santana de Souza Ribeiro. Síntese e Caracterização de Estruturas de Sílica Oca obtidas a partir de Esferas de Poliestireno. 2013. Dissertação (Mestrado em Nanociências e Materiais Avançados) - Universidade Federal do ABC.

Teses de doutorado
1.
E Bittencourt; M. Massi; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.; S. P. Ravagnani; L. Peres. Participação em banca de Tsai Garcia Pérez. Estudo da Influência do Plasma de Baixa Pressão no Comportamento Mecânico das Uniões Adesivas Metal-Borracha. 2010. Tese (Doutorado em Doutorado em Engenharia Química) - Universidade Estadual de Campinas.

2.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.; SWART, J. W.; I.Doi. Participação em banca de Guilherme Osvaldo Dias. Propriedades ópticas e elétricas de nanoestruturas de Si. 2009. Tese (Doutorado em Doutorado em Engenharia Elétrica - UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas.



Participação em bancas de comissões julgadoras
Avaliação de cursos
1.
S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.; I.Doi; A. Champi; E. C. Venancio. Sínteses e caracterização de partículas de sílica porosa. 2011. Universidade Federal do ABC.

2.
E Bittencourt; S. N. M. Mestanza & S. N. Mestanza M.. Modificação da Superfície de Polimeros com Plasma e Radiação Ultravioleta e sua Relação com Fenômenos de Adesão. 2008. Universidade Estadual de Campinas.



Eventos



Participação em eventos, congressos, exposições e feiras
1.
World Congress on Medical Physics and Biomedical Engineering. Feasibility Study of a Methodology Using Additive Manufacture to Produce Silicone Ear Prostheses. 2018. (Congresso).

2.
Brazilian Materials Research Society (SBPMat-2017). Synthesis and Characterization of Plasmonic Nanoparticles for Electronic Approaches. 2017. (Congresso).

3.
38th Annual International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology Society. Comparison of Additive Manufacturing Processes for Silicone Auricular Prosthesis Production. 2016. (Congresso).

4.
AVS 61st International Symposium and Exhibition.Low temperature thin dielectric films obtained by ECR-CVD for application in non-volatile memories. 2014. (Simpósio).

5.
AVS 61 st International Symposium and Exhibition.Influence of the deposition time in optical and electric characteristics of Ge nanoparticles grown in SiO2 by LPCVD technique. 2014. (Simpósio).

6.
SBMicro 29th Symposium on Microelctronics Technology and Devices.Effect of Annealing time on charge storage behavior of Ge nanoparticles grown by LPCVD, as floating gate of MOS memory structures. 2014. (Simpósio).

7.
3rd International Conference on Multifunctional, Hybrid & Nanomaterials. The influence of the cationic polystylene in hollow silica particles fabrication. 2013. (Congresso).

8.
SBMicro 2013 - Chip in Curitiba.Structural and Eletrical Properties of Germanium Nanoparticles Grown by LPCVD for MOS-Structures. 2013. (Simpósio).

9.
The 14th International Conference on the Formation of Semiconductor Interfacces. Effects of Different Functionalization Times of SiO2 Surface in the Formation of Ge Nanoparticles Over SiO2 by LPCVD Technique. 2013. (Congresso).

10.
XI Brazilian MRS Meeting-2012.Effect of the cationic polystyrene in hollow sílica particles fabrication. 2012. (Encontro).

11.
XI Brazilian MRS Meeting-2012.Synthesis, characterization and Modeling of Plasmonic Silver Nanoparticles. 2012. (Encontro).

12.
XI Brazilian MRS Meeting-2012.The influence of process parameters in the synthesis of Fe3O4 nanoparticles. 2012. (Encontro).

13.
XI Brazilian MRS Meeting-2012.Raman spectroscopy of iron oxide nanoparticles. 2012. (Encontro).

14.
XI Brazilian MRS Meeting-2012.Optical properties of SiGe nanoparticles grown by LPCVD. 2012. (Encontro).

15.
X Brazilian MRS Meeting. Influence of functionalization in synthesis of magnetic nanoparticles. 2011. (Congresso).

16.
X Brazilian MRS Meeting. Fabrication, characterization, properties and applications of protective coatings and modified surfaces. 2011. (Congresso).

17.
X Brazilian MRS Meeting. Synthesis and characterization of erbium doped silica nanoparticles by sol-gel. 2011. (Congresso).

18.
X Brazilian MRS Meeting. Influence of Functionalization in the Synthesis of Silver Nanoparticles. 2011. (Congresso).

19.
X Brazilian MRS Meeting. Influence of deposition rate on the optical properties of Si1-xGex thin films obtained by LPCVD. 2011. (Congresso).

20.
X Brazilian MRS Meeting. Growth Dynamic Study on Particles Silica Sol-Gel. 2011. (Congresso).

21.
X Brazilian MRS Meeting. Influence of functionalization in the size, morphology and geometric distribution of the hollow silica nanoparticles. 2011. (Congresso).

22.
IX Brazilian MRS Meeting. Preparation and characterization of silica nanoparticles via the sol-gel method. 2010. (Congresso).

23.
11 th International Conference on Advanced Materials. Synthesis and Characterization of Gold Nanoshells. 2009. (Congresso).

24.
IV th International Symposium on Advanced Materials and Nanostructures (ISAMN).Influence of the process parameter on the synthesis of nanoshells. 2009. (Simpósio).

25.
Physics Symposium, The University of UFABC.Preparação e Caracterização de Nanoshells. 2008. (Simpósio).

26.
School of Physics, The University of UFABC.Sintesis de Nanoestruturas Semicondutoras com aplicações na fabricação de micro & nano dispositivos e na medicina: Nanoshells e nanoesferas biodegradaveis. 2008. (Outra).

27.
6th Brazilian MRS Meeting, Natal. Synthesis and characterization of Gemanium nanocrystallites grown on silicon nuclei grown on ultra-thin oxides by LPCVD. 2007. (Congresso).

28.
SBMicro 2007 22th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Rio de Janeiro. Phororesponse Analysis of Sensors Fabricated with Standard 2.0 um CMOS Technology. 2007. (Congresso).

29.
SBMicro 2007 22th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Rio de Janeiro. The effect of Si-Substrate on the Optical Characterization of Ge Nanostructure Obtained by LPCVD. 2007. (Congresso).

30.
European Materials Research Society (E-MRS), Nanomaterials & Nanoelectronics, Nice. Influence of Nucleation Parameters in the Spatial Distribution of the Ge Nanocrystals formed by LPCVD. 2006. (Congresso).

31.
ICCDCS 6th IEEE International Caribbean Conference on Devices, Circuits and Systems-2006, Playa del Carmen. Synthesis Ge nanocrystals grown by ion implantation and subsequent annealing. 2006. (Congresso).

32.
SBMicro 2006 21th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Ouro Preto. Influence of Nucleation Parameters in the Ge NCs formation by LPCVD. 2006. (Congresso).

33.
XXIX Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada, São Lourenço/MG. Photoluminescence behavior of silicon nanocrystals as seem from Ostwald ripening and quantum confinement model. 2006. (Congresso).

34.
Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP12), to be held in São Jose dos Campos. Formation of Nanometer Silicon Dots with Germanium Core by Low-pressure Chemical Vapor Deposition. 2005. (Congresso).

35.
Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP12), to be held in São Jose dos Campos. Influence of post-annealing time in gas passivation on the photoluminescence spectral emission of silicon nanostructure embedded in SiO2. 2005. (Congresso).

36.
SBMicro 2005 20th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Florianopolis. Growth, and characterization of silicon nanocrystals obtained by ion implantation. 2005. (Congresso).

37.
SBMicro 2005 20th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS, Florianopolis. Characterization and performance evaluation of a APS pixel in a standard 2μm CMOS technology. 2005. (Congresso).

38.
SBPMat 2005 - Syntesis and characterization of nanoparticles and nanocomposites, 4nd Brazilian MRS Meeting, Recife. Fabrication and characterization of Ge nanocrystalline grown by ion implantation in SiO2 matrix. 2005. (Congresso).

39.
16th International Vacuum Congress, Venice / Italy. Fabrication and Characterization of Si Nanocrystals grown by Ion Implantation in SiO2 and SiOxNy. 2004. (Congresso).

40.
IEEE Fifth International Caracas Conference on Devices, Circuits and Systems-2004, Punta Cana. High Performance Active Pixel Sensors Fabricated in a Standard 2.0 μm CMOS Technology. 2004. (Congresso).

41.
IV Congreso Iberoamericano de Sensores, Puebla / Mexico. Active Pixel Sensors Fabricated in a Standard 2.0 μm CMOS Technology. 2004. (Congresso).

42.
SBMicro 2004 19th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS. High Sensitivity Obtained by Three-Color Detector APS-CMOS Using Antireflective Coating. 2004. (Congresso).

43.
SBMicro SBMicro 19th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip on the REEFS. Preparation and Characterization of Silicon Nanocrystals Obtained by Ion Implantation. 2004. (Congresso).

44.
SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, Foz do Iguazu. Capacitance-Voltage Characteristics in Metal Oxide Semiconductor Structure Containing Nanostructure of Silicon. 2004. (Congresso).

45.
SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, Foz do Iguazu. The Influence of the Phosphorus-doped in Silicon Nanostructure Fabricated by Ion Implantation. 2004. (Congresso).

46.
SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, Foz do Iguazu. Fabrication and Characterization of Si Nanocrystals with a Core Germany by Low-Pressure Chemical Vapour Deposition. 2004. (Congresso).

47.
SBPMat 2004 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems III, 3nd Brazilian MRS Meeting, Foz do Iguazu. Influence of N2, H2 and Forming Gas on Spectroscopic Properties of Silicon Nanostructure. 2004. (Congresso).

48.
XXVII Encontro Nacional de Física da Materia Condensada, Poços de Caldas /MG. Structural and Optical Characterization of Silicon Nanocrystals in SiO2, SiOx and SiOxNy Matrices. 2004. (Congresso).

49.
?: SBMicro 2003 18th Symposium on Microelectronics Technology and Devices Chip in Sampa. Three-Color Detectors for APS-CMOS Image Sensors Employing a Triple Junction. 2003. (Congresso).

50.
IX-IBERCHIP Workshop IWS-2003, Havana. Photodiode - type Pixels for APS-CMOS 2 m Image Sensors. 2003. (Congresso).

51.
IX-IBERCHIP Workshop IWS-2003, Havana. Sensor de pixel ativo no processo CMOS 0,35um. 2003. (Congresso).

52.
SBPMat 2003 - Current Trends in Nanostructured Materials and Systems II, 2nd Brazilian MRS Meeting, Rio de Janeiro. Structural and Optical Characterization of Silicon Nanocrystals Obtained by Ion Implantation. 2003. (Congresso).

53.
SBMicro - 17th symposium on microelectronic technology and devices. Development of CMOS-APS Technology. 2002. (Congresso).

54.
Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP10), to be held in Guaruja.Optical and Eletrical Losses in Dry Etched Micro-Fabry Perot Resonators. 2001. (Simpósio).

55.
Future trends in microelectronics: The nano Millennium. InGaAs/GaAs/InGaP quantum well microcavites with spatially controller carrier injection. 2001. (Congresso).

56.
Internacional Microwave and Optoeletronics Conference Imoc?99. Laser reflectometry applied to the in-situ etching control in an electron cyclotron resonance plasma system. 1999. (Congresso).

57.
Internacional Microwaves and optoelectronics Conference IMOC?99. InGaAs/GaAs/InGaP quantum well laser with etched mirror obtained by electron cyclotron resonance plasma. 1999. (Congresso).

58.
Encontro Brasileiro de Proteção Radiológica.Contaminação ambiental por Rn-222 no meio ambiente. 1996. (Encontro).



Orientações



Orientações e supervisões em andamento
Dissertação de mestrado
1.
Emerson Costa Santos. Projeto, Fabricação de uma Impressora-3D com Lógica Fuzzy. Início: 2018. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Universidade Federal do ABC, Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior. (Orientador).

2.
Jonathan Costa Negri. Sínteses e caracterização de tinta condutiva de nanopartículas plasmonicas com aplicações em Micro/Nanodispositivos. Início: 2017. Dissertação (Mestrado em PÓS-GRADUAÇÃO EM ENGENHARIA ELÉTRICA HOME LABORATÓRIOS DOCENTES PESQUIS) - Universidade Federal da UFABC. (Orientador).

Iniciação científica
1.
Pedro Gabriel Gengo Lourenço. Projeto, Fabricação e Aplicação de uma Impressora-3D tipo Rep-Rap. Início: 2017. Iniciação científica (Graduando em Engenharia de Instrumentação, Automação e Robótica) - Universidade Federal do ABC. (Orientador).

2.
Oluwasheun dos Santos Calonge. Ensaios de fabricação de uma mão robótica hidráulica: acionamento manual e eletrônico. Início: 2017. Iniciação científica (Graduando em Engenharia de Instrumentação, Automação e Robótica) - Universidade Federal do ABC. (Orientador).


Orientações e supervisões concluídas
Dissertação de mestrado
1.
Bárbara Olivetti Artioli. MÉTODO DE PRODUÇÃO DE UMA PRÓTESE AURICULAR A PARTIR DA MANUFATURA ADITIVA. 2016. Dissertação (Mestrado em Engenharia Biomédica) - Universidade Federal do ABC, Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior. Coorientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

2.
Carine Santana de Souza Ribeiro. Síntese e caracterização de nanopartículas de sílica porosa. 2013. Dissertação (Mestrado em Nanociências e Materiais Avançados) - Universidade Federal do ABC, Universidade Federal da UFABC. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

3.
Emílio Sérgio Marins Vieira Pinto. SÍNTESE E CARACTERIZAÇÃO DE NANOCRISTAIS DE Ge POR LPCVD. 2006. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Universidade Estadual de Campinas, Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior. Coorientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

Tese de doutorado
1.
Melissa Mederos Vidal. Memórias não Voláteis obtidas a partir de nanopartículas de Ge crescidas por LPCVD como nano-portas flutuantes em capacitores MOS. 2014. Tese (Doutorado em Nanociências e Materiais Avançados) - Universidade Federal do ABC, Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

2.
Melissa Vidal Mederos. Sínteses e caracterização denanoestruturas semicondutoras para aplicações na fabricação de dispositivos. 2009. Tese (Doutorado em Nanociências e Materiais Avançados) - Universidade Federal do ABC, Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

Iniciação científica
1.
Marcos Vinícius Sampaio Bonfim. Síntese e caracterização de nanopartículas de óxido de ferro revestidas com uma shell de sílica. 2014. Iniciação Científica. (Graduando em Engenharia de Instrumentação, Automação e Robótica) - Universidade Federal do ABC, Universidade Federal da UFABC. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

2.
Natali Pereira dos Santos. Investigação de modificações estruturais e desempenho de um protótipo de prótese de mão mecânica feito por impressão 3D. 2014. Iniciação Científica. (Graduando em Engenharia de Instrumentação, Automação e Robótica) - Universidade Federal do ABC, Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

3.
Natali Pereira dos Santos. Investigação de modificações estruturais e desempenho de um protótipo de prótese de mão mecânica feito por impressão 3D. 2013. Iniciação Científica. (Graduando em Engenharia de Instrumentação, Automação e Robótica) - Universidade Federal do ABC. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

4.
Marcos Vinícius Sampaio Bonfim. Síntese e caracterização de nanopartículas de óxido de ferro revestidas com uma shell de sílica. 2013. Iniciação Científica. (Graduando em Engenharia de Instrumentação, Automação e Robótica) - Universidade Federal do ABC, Universidade Federal da UFABC. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

5.
Gustavo Guimarães Boffo. A influência dos parâmetros do processo na síntese de Fe3O4 para aplicações biomédicas. 2012. Iniciação Científica. (Graduando em Engenharia de Instrumentação, Automação e Robótica) - Universidade Federal do ABC, Universidade Federal da UFABC. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

6.
Vinicius Ceola Pereira. Síntese, Caracterização e Modelagem de Nanopartículas Plasmônicas. 2012. Iniciação Científica. (Graduando em Engenharia de Instrumentação, Automação e Robótica) - Universidade Federal do ABC, Universidade Federal da UFABC. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

7.
Monique Bezerra Holanda de Lima. Sínteses, caracterização de nanopartículas magnéticas para aplicações biomedicas. 2011. Iniciação Científica. (Graduando em Iniciação Científica) - Universidade Federal do ABC, Universidade Federal da UFABC. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

8.
Isis Polido Santos. Sínteses, caracterização de nanocompositos de sílica dopada com érbio. 2010. Iniciação Científica. (Graduando em Iniciação Científica) - Universidade Federal do ABC, Universidade Federal da UFABC. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

9.
Mariana Theresa Barbosa Milesi.. Sínteses, caracterização de nanoshells. 2009. Iniciação Científica. (Graduando em Iniciação Científica) - Universidade Federal do ABC, Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

10.
Sarah Abuhab Valente. Cálculo das propriedades de absorção e espalhamento de nanoshells metálicas. 2009. Iniciação Científica. (Graduando em Iniciação Científica) - Universidade Federal do ABC. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

11.
Antonio Carlos Gomes Rocha. Síntese e Caracterização de Nanoestruturas de Silício, com Centro de Germânio, Obtidas por LPCVD. 2008. Iniciação Científica - Universidade Federal do ABC, Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.

12.
Fabiana Duft. Estudo da luminescência de nanoestruturas de silício obtidas por implantação de íons. 2008. Iniciação Científica - Universidade Federal do ABC, Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico. Orientador: Segundo Nilo Mestanza Muñoz.



Educação e Popularização de C & T



Artigos
Artigos completos publicados em periódicos
1.
MESTANZA, SEGUNDO NILO M.2016MESTANZA, SEGUNDO NILO M.; RIBEIRO, ANDERSON ORZARI ; RIBEIRO, CARINE SANTANA DE SOUZA ; GIUNTA, GIORGIO ; RIBERA, ANTONIO . Study of the influence of dynamics variables on the growth of silica nanoparticles. Inorganic and Nano-Metal Chemistry, v. 47, p. 824-829, 2016.

2.
MEDEROS, M.2015MEDEROS, M. ; MESTANZA, S.N.M. ; DOI, I. ; DINIZ, J.A. . Effects of temperature and deposition time on the structural and optical properties of Si1−xGex nanoparticles grown by low pressure chemical vapor deposition. Thin Solid Films, v. 579, p. 116-122, 2015.



Outras informações relevantes


* O projeto "Sínteses, caracterização de nanoshells" foi selecionado dentre as muitas postulações de projetos de intercâmbio de professores entre universidades Brasileiras e Espanholas. Estou viajando com bolsa integral para Espanha pela Fundação Carolina (Espanha) de novembro de 2009 até final de fevereiro de 2010. Nesta estadia, desenvolverei uma parte do projeto das nanoshells, o qual já venho trabalhando na UFABC, com o grupo de nanoestruturas da Universidade de Valencia, como parte de aperfeiçoamento desta técnica. 

* Projeto desenvolvido em conjunto pela COPPE/UFRJ e CCS/UNICAMP,"Imageador APS para Aplicações Espaciais", foi aprovado pela Agencia Espacial Brasileira -AEB no PROGRAMA UNIESPAÇO-2004.

* 2006 Assessor ad hoc da SBMicro.

* 2003-2005 Assessor ad hoc da FAPESP.

* 2002-2005 Centro de Componentes Semicondutores - UNICAMP: Pesquisador e Co-orientador.
Microeletrônica.- Desenvolvimento de sensores de imagem de pixels ativos (APS), com aplicações em estudo da radiação solar (linha H-alfa). Projeto/simulação, fabricação, caracterização e analise dos sensores APS.

* Micro-optoelectrônica.- Desenvolvimento de uma técnica de fabricação e caracterização de nanoestruturas semicondutoras de Si e Ge obtidos por implantação iônica e crescimento epitaxial (LPCVD), para a fabricação de dispositivos fotônicos (micro-lasers), LEDs e transitors de gate flutuante discreto (memórias).

* 2001-2002 Instituto de Física Gleb Wataghin.
Programa de Ensino ao Docente (PED-I)
Professor da mateira Física experimental II.

* 2000-2001 Instituto de Física Gleb Wataghin.
Programa de Ensino ao Docente (PED-I)
Professor da matéria Física experimental I.

* 1996-2001 Laboratório de pesquisa em dispositivos - Instituto de Física Gleb Wataghin.
Pesquisador 
Desenvolvimento laseres semicondutores de cavidades ultrapequenas, com aplicações nas interconexões ópticas e integração em OEIC?s (circuitos integrados optoelectrônicos). Projeto/simulação, fabricação



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